摘要
D3BNA]P\2@ ci~pM<+
高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
l0%qj(4`6& B- `,h pp
O%KP,q&}Y .2V`sg.! 建模任务
:UrS@W^B ?z]hYsy
K4V\Jj1l B9glPcy}SS 入射平面波
=ZaTD-%id 波长 2.08 nm
6zfi\(fop 光斑直径: 3mm
X$<s@_#1 沿x方向线偏振
@TTB$ D$wl.r 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
:@H&v%h(u 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
uR:@7n @D3Y}nR: 概览
xpb,Nzwt^ •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
}{(dG7G+ •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
-/O_wqm# PqOPRf
DnZkZ;E/ 光线追迹模拟
)zR(e>VX •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
I!L`W
_ •点击Go!
5/ee&sJR •获得3D光线追迹结果。
,+gU^dc|hq #nv =x&g
S-$N! G~! (pl|RmmDz 光线追迹模拟
nX|f?5 O •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
0E5"}8 •单击Go!
5ZX P$. •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
VT;Vm3\ nSM8o<)H
@We im7r b85r=tm 光场追迹模拟
m@z.H ; •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
~T{^7"q\ •单击Go!
r}1.=a c89+}]mGq
a%"27
n(M tLz,t&h 光场追迹结果(照相机探测器)
R@+%~"Z l.
9
i ` •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
:?*|D p1 •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
-Dx_:k|k h
"MiD
@&AUbxoj N'8u}WO 光场追迹结果(电磁场探测器)
?51Y&gOEZ /.{q2] •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
O)$rC TspuZR@2
vSOO[.= c,K)*HB
I:ag}L8` C3XB'CL6
8%@![$q<g j>{Dbl:#2