摘要
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高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
vRPS4@9' T[Pa/j{ +[m8c){ h<+|x7u 建模任务
T ^JuZG ,PWj_}|L[ &!35/:~uD 7?)/>lx\>$ 入射平面波
N*DhjEU)[ 波长 2.08 nm
y7<&vIEC 光斑直径: 3mm
|)W!jC&k 沿x方向线偏振
0p fnV% fn9#>~vrD 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
["3df>!f 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
ad!(z[F'Y w5]l1}rl 概览
NE"jh_m- •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
oj}"H>tTp •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
wUi(3g|A GLKO]y AV @\ +0 光线追迹模拟
OYf{?-QD •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
,2 WH/" •点击Go!
SvK1.NUa •获得3D光线追迹结果。
a%hGZCI 6kvV EaS~` s0{
NsK> 光线追迹模拟
DM3B]Yl •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
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|F>W~% •单击Go!
.#^0pv! •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
LD+f'^>>Z MB:n~>ga 6CNS%\A NcL
=zo< 光场追迹模拟
>,h1N$A+ •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
zj]b&In6; •单击Go!
~q% B[NJ^b| gwQvao Xa`(;CLW? 光场追迹结果(照相机探测器)
7o{*Z +0pW/4x •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
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u2Cd4 •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
DY><qk T2bnzIi '\*A"8;h C<he4n. 光场追迹结果(电磁场探测器)
dE>v\0 3!8 w67xl •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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