[技术]分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

摘要 -1c{Jo  
+'!Y[7|9iv  
高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 R&9Q#n-  
d0D*S?#8,C  
M*7:-Tb]C  
@szr '&\%A  
建模任务 >j_N6B!  
)|j?aVqZ  
hLF;MH@  
概述 ayh=@7*  
l&oc/$&|[
 
•案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 FgTWym_  
•接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 5;q{9wvqO  
g0>Q* x  
g~]?6;uu  
> ,;<Bz|X  
光线追迹仿真 )k6kK}  
^]ig*oS\`  
•首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 se&Q\!&M  
•单击go！ C5x*t Q|  
•获得了3D光线追迹结果。 ;T*o RS  
k`h#.B J  
C9L_`[9DO  
"ot#g"  
光线追迹仿真 >m#bj^F\  
*5d6Q   
•然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 ky=h7#wdv-  
•单击go！ eH^~r{{R  
•结果得到点图（二维光线追迹结果）。 M}x]\#MMY  
{W$K@vuV;?  
h@%a+6b?  
2+cpNk$  
场追迹仿真 9s&Tv&%VN  
= ow=3Ku  
•切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 HMq
R%A  
•单击go！ V2LvE.Kj  
4rrR;V"}  
]3]=RuQK2  
*I9O+/,  
场追迹仿真（相机探测器） s"B+),Jod  
)>I-j$%=2  
•上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 r>cN,C
 
•下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 njckPpyb@  
@^Yr=d ba  
VCQo3k5 {  
{B[ }}wX$  
场追迹仿真（电磁场探测器） ubUVxYD?  
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 6QAhVg: A  
f[wxt n'r  
VMH
^jCFp  
,)ZI&BL5  
场追迹仿真（电磁场探测器） /_</m?&.U&  
do:IkjU~  
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 }No8to  
fs0EbVDF