[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 ]BaK8mPl  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 m4,inA:o  
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场景 YSux#*#H  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 ^c?$$Tq  
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系统构建块 C^7M>i  
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组件求解器 z9JZV`dNgz  
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系统构建块 QSyPtjg]  
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总结 V11XI<V
 
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几何光学仿真 @P/6NMjZ^  
通过光线追迹 \-CL}Z}S  
F?XiP.`DR  
结果：光线追迹 0N):8`dY  
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快速物理光学仿真 aRcVoOq  
通过场追迹 l
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 t4<+]]   
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 #7=- zda5  
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图片:1-21050H24JA60.png

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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 nJY3 1(p  

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 qe|U*K 2_  
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总结 [wn! <#~v  
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