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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-03-27
    摘要 IYM@(c@ld0  
    U+RCQTo  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 G5QgnxwP2  
    8|jX ~f  
    l=-d K_ I?  
    场景 &PQ{e8w  
    c@o/Cv  
    ;aRWJG  
    vu.S>2Wv  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 H'= i  
    .J6 j"  
    系统构建块 48&KdbGX  
    p3A-WK|NX  
    YI),q.3X~  
    1:{O RX[;  
    组件求解器 / =Uv  
    _qzo):G.s  
    qYu!:xa8  
    )r|zi Z{F  
    系统构建块 $hE'b9qx  
    FO'. a  
    'xrbg]b%  
    z5*O@_r+.b  
    总结 4;c_%=cU  
    Ko]h r  
    ~tj7zI6  
    _Fh0^O@  
    几何光学仿真 p_40V%y^  
    通过光线追迹 ah6F^Kpl{  
    "6NNId|Y  
    结果:光线追迹 l-h7ksRs  
    q!oZ; $  
    DwrCysIK  
    )RCqsFjK  
    快速物理光学仿真 h9n<ped`A;  
    通过场追迹 \=G Xe.}4d  
    MdoWqpC  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 (b 2^d  
    owY_cDzrH  
    LYq2A,wm$  
    "KT nX#<0  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 o(SJuZC/U  
    UCj#t!Mw  
    \utH*;J|x  
    k#r7&Y  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 p*&LEjaVM4  
    3{L vKe  
    /G{3p&9  
    [Z G j7  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 x2&! PpM  
    H=BR -  
    v*]Xur6e}  
    QEHZ=Yg%3  
    总结 +p}Xmn  
    ]<_!@J6k  
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