[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 }P3tn  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 +f0~D(d!_  
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图片:1-21050H24230433.jpg

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场景 @h?shW=^  
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图片:1-21050H24314539.png

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在VirtualLab Fusion中构建系统 jEz+1Nl)  
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系统构建块 B$KwkhMe  
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图片:1-21050H24406210.png

Cv)/7vyB8  
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组件求解器 #&8}<8V  
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图片:1-21050H24431134.png

as+GbstN  
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系统构建块 K1?Gmue#I  
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图片:1-21050H24504963.png

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K~RoUE<3[  
总结 }]UB;id'  
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图片:1-21050H24542394.png

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几何光学仿真 (x;g/!:  
通过光线追迹 xKOq[d/8  
MYe HS  
结果：光线追迹 jy2IZ o  
gLE7Edcp6V  

图片:1-21050H24620F7.png

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快速物理光学仿真 9^F2$+T[:  
通过场追迹 $!A:5jech  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 s|bM%!$1  
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图片:1-21050H24F9561.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 MVv1.6c7Y  
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图片:1-21050H24JA60.png

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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 |4Ck;gg!j  
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图片:1-21050H24QT15.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 &ogt2<1W  
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图片:1-21050H24U19D.png

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总结 B`#h{)[  
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图片:1-21050H2491WT.png