[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 B3Ws)nF"  
6c*QBzNL  
在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 e7n`fEpO  
dC?l%,W  
;RS^^vDm  
场景 Vo9FlYj  
7W=s.Gy7G\  
1 }
_"2  
-;o0)DwZ  
在VirtualLab Fusion中构建系统 S+u@ Q}
 
B:fulgh2ni  
系统构建块 ~Hvf"b
vK|  
?GGBDql  
QLb!e"C  
BP=<TRp.  
组件求解器 G!U `8R  
bf/z T0  
te+r.(p  
m'U>=<!D  
系统构建块 qjH/E6GGg  
vq1u!SY  
y|(?>\jBl  
%)=c#H1  
总结 R2y~+tko?
 
O7yIFqI=/  
yK w.69.  
ye`-U?7.  
几何光学仿真 _@O.EksY3r  
通过光线追迹 mBDzc(_\$'  
 \1?:  
结果：光线追迹 Q$x 3uH\@  
1(qL),F;  
q}hHoSG]=  
XyD*V;.E  
快速物理光学仿真 a>egH og  
通过场追迹 `FmRoMW9+  
afye$$X  
在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 ?:#$btmn?  
t{O
2JF#5u  
14yzGhA  
c> ":g~w  
聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 QVe<Z A8N;  
+[Q`I*C  
2Jqr"|sw  
9C:V i  
在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 4GexYDk'#  
PF:'
dv  
TTo5"r9I8  
cfL:#IM  
聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 W@61rT}c  
%]!xr6d  
a t%qowt  
mf\@
vI  
总结 59k-,lyU,  
iM"L%6*I^