[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 b\KbF/T  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 i6A9|G$H
 
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图片:1-21050H24230433.jpg

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场景 L,.AY?)+7  
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NM^uP+uS  
在VirtualLab Fusion中构建系统 j
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系统构建块 NjT*5 .  
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WF-jy7+  
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组件求解器 tHo|8c~[  
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系统构建块 vG.KSA  
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总结 <YtjE!2  
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几何光学仿真 ;gZ/i93:Q  
通过光线追迹 utBrH  
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结果：光线追迹 hdi0YL  
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快速物理光学仿真 ,Pcg+^A  
通过场追迹 .4U*.Rf  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 |,5|ZpgL  
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图片:1-21050H24F9561.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 Q!qD3<?5  
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图片:1-21050H24JA60.png

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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 "f_qG2A{  
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图片:1-21050H24QT15.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 2nC,1%kxhq  
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图片:1-21050H24U19D.png

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总结  >(ip-R  
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