[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 o.
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 g^idS:GtX5  
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图片:1-21050H24230433.jpg

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场景 I4*N  
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图片:1-21050H24314539.png

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在VirtualLab Fusion中构建系统 \bg^E>-  
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系统构建块 )sQbDA|p  
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图片:1-21050H24406210.png

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组件求解器 s[g1ei9  
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图片:1-21050H24431134.png

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系统构建块 DFiexOb  
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图片:1-21050H24504963.png

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总结 qGw6Wp~  
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图片:1-21050H24542394.png

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几何光学仿真 6Q
V/8IX  
通过光线追迹 O~D}&M@/R  
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结果：光线追迹 vL><Y.kOEs  
QK72F  

图片:1-21050H24620F7.png

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快速物理光学仿真 U!Lws#\X  
通过场追迹 1/gh\9h  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 HqbTJ!a  
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图片:1-21050H24F9561.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 JmBYD[h,  
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图片:1-21050H24JA60.png

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u/MIB`@,  
在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 b/ynCf8X  
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图片:1-21050H24QT15.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 X:dj5v  
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图片:1-21050H24U19D.png

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总结 F[+sc Mx!G  
VTF),e!  

图片:1-21050H2491WT.png