[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 =L"
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 u,eZ6  
z>G;(F2  

图片:1-21050H24230433.jpg

SG:bM7*1'  
场景 fD{II+T  
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图片:1-21050H24314539.png

FI8k;4|V  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 Y9u;H^^G  
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系统构建块 rnO0-h-;  
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图片:1-21050H24406210.png

OEnDsIhq  
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组件求解器 dCeX}Z  
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图片:1-21050H24431134.png

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系统构建块 A "S/^<  
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图片:1-21050H24504963.png

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总结 JO=1ivZl  
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图片:1-21050H24542394.png

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几何光学仿真 _yvLuj  
通过光线追迹 PK4`5uT  
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结果：光线追迹 #r<?v  
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图片:1-21050H24620F7.png

B[F-gq-  
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快速物理光学仿真 5wT>N46UX  
通过场追迹 !8R@@,_v  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 HI`q1m.  
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图片:1-21050H24F9561.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 tHhHrMxO  
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图片:1-21050H24JA60.png

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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 V*RdDF7  
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图片:1-21050H24QT15.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 {v` 2sB  
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图片:1-21050H24U19D.png

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总结 4woO;
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图片:1-21050H2491WT.png