[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 J}._v\Q7P  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 x^+ C[%  
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场景 @ RTQJ+ms  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 X-:Ni_O\ty  
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系统构建块 By3dRiM=,2  
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组件求解器 +}mj6I  

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系统构建块 1yX&iO^d  
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总结 Ic#+*W\ZW  
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几何光学仿真 2<ef&?ljk  
通过光线追迹 }[LK/@h  
B1nb23SY T  
结果：光线追迹 s3J T1TX  
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Dcus-,u~  
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快速物理光学仿真 6b<t|zb  
通过场追迹 HS(
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 N..9N$+(  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 cgz'6q'T  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 .-RWlUe;,  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 L {B#x@9tQ  

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总结 kQ'G+Kw~F  
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