[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 _%l+v
  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 uR)itm
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场景 Ed#%F-1sX  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 =pWpHbB.  
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系统构建块 P,h@F+OZN  
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组件求解器 &\sg~  
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系统构建块 =i%2/kdi0b  
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总结 +6<MK;  
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几何光学仿真 m_rRe\  
通过光线追迹 GU&XK7L  
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结果：光线追迹 vp mSzh  
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快速物理光学仿真 T>f-b3dk  
通过场追迹 CQ,r*VAw  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 \ vJ*3H6  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 )0}obPp  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 bjT0Fi0-  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 cQ+,F2  
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总结 !h4So4p  
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