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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2024-03-27
    摘要  LA3m,  
    -xn-A f!v  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 6/UOz V,[  
    IMf|/a9-  
    %_(vSpk  
    场景 R"B{IWQi  
    A@A8xn%  
    zp}7p~#k^  
    ^'`b\$km-0  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 :""HyjY!  
    [D"6&  
    系统构建块 I dK*IA4  
    nBy-/BU&  
    k2}DBVu1  
    Od!)MQ*,  
    组件求解器 \|PiQy*_?  
    Zxebv# 4  
    )z[C=  
    JW>k8QjyN  
    系统构建块 qc8Ge\3s  
    jSI1tW8  
    };Q}C0E  
    `B %%2p&  
    总结 K~L&Z?~|E  
    m$vq %[/#  
    )N.3Q1g-  
    s)-An( Uw  
    几何光学仿真 "wcaJ;Os  
    通过光线追迹 f_c\uN@f  
    h FU8iB`Q  
    结果:光线追迹 l.}PxZ  
    f"Sp.'@  
    @Jd&[T27Lr  
    &[G)Y D  
    快速物理光学仿真 ,r B(WKU  
    通过场追迹 iw)gNQ%z4  
    2S8;=x}/  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 Ao K9=F}  
    MCE@EFD`\  
    lR?y tIY  
    ChiIQWFE  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 fFJ7Y+^  
    N9-0b  
    d"|_NG`vr  
    ]it. R-  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 #2]*qgA4  
    cH_qHXi[G  
    [ja^Bhu  
    }a"=K%b<\  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 qiz(k:\o  
    B^2r4 9vC  
    bxa>:71  
    vHi%UaD-y  
    总结 \(Ma>E4PNU  
    @b(@`yz.a  
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