[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 p@Ng.HE  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 %tC3@S  
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场景 lIDGL05f'  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 NP_b~e6O=  
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系统构建块 =i:6&Y~VGq  
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组件求解器 `PVr;&  
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系统构建块 n0*a.  
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总结 .o?"=Epo  
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几何光学仿真 R]y[n;aGC  
通过光线追迹 RHOEyXhOA  
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结果：光线追迹 se:lKZZ]  
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图片:1-21050H24620F7.png

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快速物理光学仿真 Ous_269cM  
通过场追迹 !0+!%Nr>J  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 00d<V:Aoy  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 !qjIhZi  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 `J(im  
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图片:1-21050H24QT15.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 ,%zU5hh  
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总结 }{(dG7G+  
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