[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 R3%T}^;f  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 {/ZB>l@D>8  
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场景 pO=bcs8Z  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 A~O 'l&KB  
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系统构建块 G }TT-  
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组件求解器 rTW1'@E  
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系统构建块 st'Y j  
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总结 )Q~Q.  
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几何光学仿真 ,Ad\!  
通过光线追迹 (;C_>EL&u  
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结果：光线追迹 bbA+ZLZJn  
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图片:1-21050H24620F7.png

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快速物理光学仿真 JnV$)EYi  
通过场追迹 #q(BR{A>t  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 >Py;6K  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 kd!f/'E!  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 cg0L(oI~  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 BU]9eF!>h  
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图片:1-21050H24U19D.png

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总结 ~cU,3g  
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