[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 M}j[{wW3  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 =W;e9 6#  
Go!{@xx>  

图片:1-21050H24230433.jpg

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场景 @U4hq7xzV2  
n|pdYe8\  

图片:1-21050H24314539.png

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u|Oc+qA(  
在VirtualLab Fusion中构建系统 n!.=05OtX  
Z^}[CQ&Am  
系统构建块 j/_&]6!
  
D^2lb"3  

图片:1-21050H24406210.png

$hHV Ie]+  
>gs_Bzy]  
组件求解器 b\KbF/T  
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图片:1-21050H24431134.png

x N7sFSV@  
6:L2oW 6}{  
系统构建块 98)C 7N'  
2X[oge0@  

图片:1-21050H24504963.png

ahIDKvJ4  
UM#.`  
总结 yoJ.[M4q  
NM^uP+uS  

图片:1-21050H24542394.png

Zxd*%v;  
g1?9ge1  
几何光学仿真 uO-|?{29  
通过光线追迹 $_,-ESI  
P;@j  
结果：光线追迹 Z:<an+v|5  
Xt
fs)"  

图片:1-21050H24620F7.png

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jVLJqWP'!  
快速物理光学仿真 a|=^   
通过场追迹 zH Z;Y^{+  
a??8)=0|}  
在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 UlXxG|  
a$h^<D ^  

图片:1-21050H24F9561.png

-Ci&h  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 7H?xp_D  
j
I0gf&v8  

图片:1-21050H24JA60.png

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Rzh.zvxTp  
在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 9PACXW0  
a;^lOU|L{  

图片:1-21050H24QT15.png

 T&MhSJf#  
b>8TH-1t~  
聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 :fwtPvLo  
|dbKK\ X9  

图片:1-21050H24U19D.png

m2"e ]I
 
V2`Ud[  
总结 +-(,'slov  
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图片:1-21050H2491WT.png