[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 37Vs9w  
8@ck" LUzD  
在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 7*]O]6rP  
<7cm[  
1foy.3g-  
场景 x\!Q[  
}$r/#F/Fn  
|13UJ v
R
 
a,IE;5kG  
在VirtualLab Fusion中构建系统 EE5I~k5  
s0 hD;`cm  
系统构建块 8.bIP ju%v  
k\X1`D}R  
-bT1Qh X  
-R@mnG 5  
组件求解器 oF[l<OY4  
d-w#\ ^  
@DG$  
86$9)UI  
系统构建块 e>\[OwF-x  
`+cc{k  
:G\f(2@  
T7_i:HU%  
总结 (;-< @~2  
Xi`K`Cu+  
.jW+\mIX  
^6tGj+D9  
几何光学仿真 qELy'\  
通过光线追迹 ?v?b%hK!;  
jt5en;AA[  
结果：光线追迹 >DqV^%2l  
iX,|;J|]  
_GSl}\  
V4kt&61  
快速物理光学仿真 DY| s|:
d  
通过场追迹 vqDd][n  
q))rlMo  
在盖玻片的最后一个界面之前聚焦  vU(2[  
{x$WBy9  
@}sxA9a  
3Q'Q %2  
聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 stn/  
VnqgN  
V?x&.C2Z  
M'gw-^(  
在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 -L=aZPW`M  
i}d^a28  
 {*!L[)  
t2V|moG  
聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 O2z{>\  
5cY([4,  
`r?xo7  
i|5.DhK}  
总结 [=f(u wY>g  
vRp#bScc