[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 =cI(d ,  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 jcOcWB|  
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图片:1-21050H24230433.jpg

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场景 +7Gwg  
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图片:1-21050H24314539.png

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在VirtualLab Fusion中构建系统 q V=!ORuj  
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系统构建块 Lbgi7|&  
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组件求解器 <'u'#E@"sl  
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系统构建块 }jXfb@`K  
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总结 i-1op> Y  
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几何光学仿真 _a, s )  
通过光线追迹 m67V_s,7B  
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结果：光线追迹 #!=tDc &  
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图片:1-21050H24620F7.png

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快速物理光学仿真 *. t^MP  
通过场追迹 "]*tLL:`  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 "+c-pO`Wg  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 jXJyc'm7  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 )J |6-C  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 'u658Tj  
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