[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 9k ~8n9
  
je^VJ&ac  
在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 G/p\MzDko  
`hO%(9V9  

图片:1-21050H24230433.jpg

 Kg';[G\  
场景 :Q DkaA  
9SsVJ<9,R  

图片:1-21050H24314539.png

[@lK[7 u  
]]
:K l  
在VirtualLab Fusion中构建系统 n#x_da-m]  
76rv$z{g^  
系统构建块 g
ZtQtFi  
@/kI;8  

图片:1-21050H24406210.png

I>FL&E@K  
_C5i\Y
)  
组件求解器 >hNSEWMY`  
qI9j=4s.  

图片:1-21050H24431134.png

c qCNk  
2*V%S/cck  
系统构建块 s`=| D'G(=  
"L]v:lg3  

图片:1-21050H24504963.png

K>+ v" x  
0]7jb_n1  
总结 g/.FJ-I*  
=F_uK7W  

图片:1-21050H24542394.png

P1[.[q/-e  
Db Qp(W0  
几何光学仿真 ,JdBVt  
通过光线追迹 s U`#hL6;  
RL4|!Hz
R  
结果：光线追迹 Z0Sqw  
B0b|+5WhR  

图片:1-21050H24620F7.png

h>!h|Ma  
:;Z/$M16B  
快速物理光学仿真 M
Xaik+2  
通过场追迹 Q.$8>)  
L-E &m*%  
在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 [!%5(Ro_  
/E<Q_/'Z  

图片:1-21050H24F9561.png

h81giY]  
*Hn=)q  
聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 T%%EWa<a  
c\ZI 5&4jT  

图片:1-21050H24JA60.png

i}8OaX3x  
R-zS7Jyox  
在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 ]zj#X\  
.>;??BG}  

图片:1-21050H24QT15.png

#@HlnF}T  
)8^E{w^D}  
聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 bJMsB|r  
HR?T  

图片:1-21050H24U19D.png

VvIUAn  
GCYXDovh  
总结 'yH  
?cWwt~N9  

图片:1-21050H2491WT.png