[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 S;Sy.Lp  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 -FZNk}  
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场景 `$1A;wg<  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 vqT)=ZC1  
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系统构建块 \kyoA Z  
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组件求解器 09vVCM;DY  
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系统构建块 R$u1\r1I  
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总结 gA
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几何光学仿真 PyI"B96gz  
通过光线追迹 5.\|*+E~  
)xU+M{p-os  
结果：光线追迹 B)DuikV.D  
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快速物理光学仿真 h]i vXF*  
通过场追迹 PQ_A^95  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 It2:2  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 '?I3&lYz{  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 LrdE
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 /ioBc}]  
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总结 7$0bgWi  
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