[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 BNs@n"k  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 V: TM]  
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图片:1-21050H24230433.jpg

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场景 aq@8"b(.  
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图片:1-21050H24314539.png

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G\+L~t  
在VirtualLab Fusion中构建系统 M]2]\km  
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系统构建块 gq'Y!BBQy  
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图片:1-21050H24406210.png

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组件求解器 /Y2}a<3&0  
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图片:1-21050H24431134.png

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系统构建块  :7]Sa`  
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图片:1-21050H24504963.png

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总结 Ni-xx9)=  
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几何光学仿真 ]rH\`0  
通过光线追迹 {CGUL|y  
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结果：光线追迹 L"1}V  
wc}5m Hs  

图片:1-21050H24620F7.png

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快速物理光学仿真 87 $dBb{  
通过场追迹 %u5L!W&  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 yy i#Mo ,  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 g4=pnK8  
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图片:1-21050H24JA60.png

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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 xSsa(b  
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图片:1-21050H24QT15.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 =JK@z  
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总结 8pIP  
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