[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 LQ# E+id&  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 !>`Fg>uy  
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场景 ~pQN#C)CO>  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 clB K  
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系统构建块 V9<`?[Usv  
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组件求解器 _?I{>:!|  
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系统构建块 m$W>~  
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总结 Mqr_w!8d  
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几何光学仿真 p%3z*2,(  
通过光线追迹 }4A] x`3  
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结果：光线追迹 @KQ.tF*  
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快速物理光学仿真 ]4l2jY  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 X7},|cmD_  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 "b} mVrFh  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 tVAi0`DV  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 3p0v  
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