[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 kj#?whK6~  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 n`? py
 
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图片:1-21050H24230433.jpg

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场景 lHN5Dr  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 d~9A+m3b_  
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系统构建块 hQ,ch[j'  
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图片:1-21050H24406210.png

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组件求解器 b1(T4w6  
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系统构建块 >8~.wXyoC  
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总结 Z)I+@2  
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几何光学仿真 [T8WThs  
通过光线追迹 u(z$fG:g  
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结果：光线追迹 ;,hwZZ
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F|'>NL-=  

图片:1-21050H24620F7.png

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快速物理光学仿真 "M<8UE\n  
通过场追迹 P{8iJ`rBG  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 ;"a=gr  
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图片:1-21050H24F9561.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 {j{u6i  
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图片:1-21050H24JA60.png

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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 Ansk,$  
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图片:1-21050H24QT15.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 !44/sr'  
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图片:1-21050H24U19D.png

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总结 5VfyU8)7X  
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图片:1-21050H2491WT.png