[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 Q4UaqiL
 
N~a?0x  
在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 +VTMa9d  
ua2SW(C@  

图片:1-21050H24230433.jpg

lc*<UZR  
场景 E*CY/F I_  
:HwB+Bjy  

图片:1-21050H24314539.png

nlJxF5/  
W#ev  
在VirtualLab Fusion中构建系统 7^ER?@:W  
$oh}!Smt  
系统构建块 @o_-UsUX  
x;kW }U  

图片:1-21050H24406210.png

_PJd1P.k  
S25&UwUw  
组件求解器 =n9|r.\&uJ  
p0[ %+n%  

图片:1-21050H24431134.png

TJ+yBMd*%  
o@"H3 gz  
系统构建块 AuWEy-q?  
Z:5e:M  

图片:1-21050H24504963.png

z`'{l{  
}O8$?7j(  
总结 >8E
Im  
hbn2(e;FZ  

图片:1-21050H24542394.png

8nNRn[oS  
?oP<sGp  
几何光学仿真 `N$<]i]s5  
通过光线追迹 S)p1[&" M  
PY~cu@'k{  
结果：光线追迹 iE>T5XV8$B  

tvavI9  

图片:1-21050H24620F7.png

~Sh8. ++}  
fmFh.m.+N  
快速物理光学仿真 {4\(HrGNk  
通过场追迹 L-vy,[9)[*  
 qauk,t  
在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 k\I+T~~xD  
fpu^  

图片:1-21050H24F9561.png

XJ.b
K  
&E0P`F,GQA  
聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 Yq}(O<ol  
^*`hJ48u  

图片:1-21050H24JA60.png

7ZqC1  
CB:G4VqOT  
在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 8 Zhx&  
} U\n:@:2B  

图片:1-21050H24QT15.png

gWL'Fl}H  
C/U^8,6\n  
聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 |aIY  
*\L\Bzm  

图片:1-21050H24U19D.png

Kj.4Z+^  
\%g# __\  
总结 fIWOo >)D  
K`Vi5hR~c  

图片:1-21050H2491WT.png