[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 JAI.NKB3  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 4HX;9HPHE<  
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图片:1-21050H24230433.jpg

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场景 4x3 _8/=  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 ,?Zy4-  
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系统构建块 r4fg!]J;  
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组件求解器 pG"hZB3)  
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系统构建块 `D$^SHfyz  
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总结 RAws{<6T-  
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几何光学仿真 |W@Ko%om  
通过光线追迹 wL^x9O|`p9  
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结果：光线追迹 w(t1m]pF[  
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快速物理光学仿真 OL:hNbw'~T  
通过场追迹 ,Mi'NO  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 es\ qnq  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 pS7y3(_  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 $=^}J6  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 U2vb&Qu/  
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总结 K V?+9qa,  
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