[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 l7ES*==&@0  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 Mn\L55?E(  
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场景 '&/Y}]  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 g[2[ zIB=  
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系统构建块 I~ SFY>s  
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组件求解器 0/+TQD!L  
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系统构建块 "^pF2JI  
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总结 >*w(YB]/$V  
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几何光学仿真 ``?Z97rH  
通过光线追迹 5[qx5|O  
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结果：光线追迹 3Z)vJC9'  
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快速物理光学仿真 Se5jxV  
通过场追迹 }WkR-5N  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 BI)$aR  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 /Big^^u  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 cbA90 8@s  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 +l$BUX  
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