[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 6m9Z5:xG  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 LS`Gg7]S  
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场景 Kxq~,g=t  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 @S{,g;8  
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系统构建块 C..O_Zn{g  
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组件求解器 I<$lpU_H  
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总结 SpkD  
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几何光学仿真 W6Hiqu+  
通过光线追迹 TR#5V@e.m  
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结果：光线追迹 "*UHit;"+{  
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快速物理光学仿真 r8mE   
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 UXd\Q''  

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 _c[t.\-`]  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 Qq5)|m  
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总结 #bnFR  
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