[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 wVv@   
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 xs)
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场景 /GP:W6:6z6  
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图片:1-21050H24314539.png

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在VirtualLab Fusion中构建系统 |@D%y&  
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系统构建块 UN6nh T  
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图片:1-21050H24406210.png

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组件求解器 I&&[ ':  
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系统构建块 lt C  
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图片:1-21050H24504963.png

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总结 }(UU~V  
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几何光学仿真 Kb#
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通过光线追迹 K"=I,Vr:  
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结果：光线追迹 hRktvO)K  
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图片:1-21050H24620F7.png

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快速物理光学仿真 J+nUxF;EE  
通过场追迹 d/I*$UC  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 sTzt  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方
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图片:1-21050H24JA60.png

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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 v?#W/].C+  
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图片:1-21050H24QT15.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 \QMRuR.  
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图片:1-21050H24U19D.png

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总结 Xp_G9I,+  
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