[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 z$m(@Q  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 PEjd  
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场景 [=cbzmX[  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 525^/d6v  
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系统构建块 94 6r#`q  
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组件求解器 mhU=^/X  
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系统构建块 h1 "#  
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图片:1-21050H24504963.png

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总结 ~LFM,@  

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几何光学仿真 nHXPEbq-g  
通过光线追迹 A -8]4p::  
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结果：光线追迹 !]mo.zDSW5  
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快速物理光学仿真 K'"s9b8  
通过场追迹 qnd] UUA^  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 %M^Q{` :5  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 ojj T  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 l.}gWN9-  
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图片:1-21050H24QT15.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 \0qFOjVj  
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图片:1-21050H24U19D.png

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总结 G[zysxd  
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图片:1-21050H2491WT.png