[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 aglW\LT^  
pEn3:.l<  
在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 bB#6Xx  
rK@UCRf  
3H'+7
[~qH  
场景 ndY1j5  
w2mLL?P  
\i +=tGY  

FV1!IE-}-  
在VirtualLab Fusion中构建系统 R[/]iK+!&  
:q+D`s  
系统构建块 EXrOP]Kl  
y9>?  
[8b,}i 1  
5ZPe=SQ{  
组件求解器 ju@5D h  
qDPpGI-Y2e  
}"{NW!RfP  
>h+G$&8[y  
系统构建块 -A\J:2a|  
=u+.o<  
?pLKUAh  
\qU.?V[2  
总结 w,CZ*/^  
1aAYBV<3  
BwN>;g_  
0tzMu#  
几何光学仿真 6J\Yi)v<  
通过光线追迹 #CM^f^*  
6-'Y*  
结果：光线追迹 ,uFdhA(i@'  
A^a9,T  
wF`9}9q  
_DAAD,'<a  
快速物理光学仿真 =}12S:Qhj  
通过场追迹 r|bvpZV  
+QqEUf<U*,  
在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 (S@H'G"  
Dyx3N5?C  
CDz-IQi  
^<@9ph  
聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 |VC/(A  
f"0{e9O]2  
-6+&?f  
^PCshb##  
在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 ye9-%~sjX  
JQ*CF(9  
9tnW:Nw~  
Cu%|}xq  
聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 CVi3nS5Yl  
pGy]t  

=;1MpD  
XZaei\rUn)  
总结 JvHGu&Nr!  
4Qr16,Us