[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 v`PY>c6~  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 IM@tN L  
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场景 wK_]/Q-L  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 8IQtz2  
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系统构建块 %r\n%$@_  
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组件求解器 {Azn&|%.t  
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系统构建块 +n0r0:z0  
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图片:1-21050H24504963.png

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总结 {P%9  
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几何光学仿真 !^#jwRpeN  
通过光线追迹 1@48BN8cm'  
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结果：光线追迹 $,=6[T!z+e  
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图片:1-21050H24620F7.png

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快速物理光学仿真 1/1Xk,E  
通过场追迹 }"vW4   
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 =uk0@hy9b  
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图片:1-21050H24F9561.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 )UgX3+@  
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图片:1-21050H24JA60.png

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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 3`d
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图片:1-21050H24QT15.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 Hgeg@RP Q  
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图片:1-21050H24U19D.png

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总结 ;AR{@Fu.  
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