[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 b6FC  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 nNCG*Vu  
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场景 RZtY3:FBx|  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 h&t/ L  
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系统构建块 tJ{3Z}K  
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图片:1-21050H24406210.png

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组件求解器 (Q_J{[F  
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系统构建块 &%@b;)]J  
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总结 )Vn(J#s
 
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几何光学仿真 Oy,7>vWQI  
通过光线追迹 g[D(]t\#x  
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结果：光线追迹 Ft&ARTsa*  
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图片:1-21050H24620F7.png

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快速物理光学仿真 v%ldg833l  
通过场追迹 ?06+"Z  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 CAbeb+
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图片:1-21050H24F9561.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 0eGz|J*7  
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图片:1-21050H24JA60.png

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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 _Q**4  
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图片:1-21050H24QT15.png

TrYt(F{t  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 O`;e^PhN  
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图片:1-21050H24U19D.png

U_&v|2o#3  
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总结
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图片:1-21050H2491WT.png