[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 (pxH<k=Ah  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 3uLG$`N   
'C1lP)S5  

图片:1-21050H24230433.jpg

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场景 $DY#04Je\=  
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图片:1-21050H24314539.png

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M@Th^yF+8H  
在VirtualLab Fusion中构建系统 mZ+!8$1X  
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系统构建块 @Zt~b'n  
Q{l,4P  

图片:1-21050H24406210.png

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r9[S%Def  
组件求解器 uvId],dQ5  
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UA>=# $  
-?Cr&!*B  
系统构建块 |N)Ik8  
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总结 =zkN63S  
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EA"hie7  
几何光学仿真 '+88UFSq5  
通过光线追迹 TeHJj`rdAU  
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结果：光线追迹 L&pR#  
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图片:1-21050H24620F7.png

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快速物理光学仿真 Rb6BY-/J  
通过场追迹 ={g)[:(C.  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 UB$}`39@  
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图片:1-21050H24F9561.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 roADC?@
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图片:1-21050H24JA60.png

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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 ~KK} $iM  
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图片:1-21050H24QT15.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 E
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图片:1-21050H24U19D.png

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总结 .n8R%|C5  
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图片:1-21050H2491WT.png