[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 0yM[Z':i'{  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 abNV4 ,M  
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场景 ?rX]x8iP  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 ^-CINt{O  
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系统构建块 h4pTq[4*  
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组件求解器 Fk;oE'"D  
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几何光学仿真 mV73 \P6K  
通过光线追迹 3cS2gxF  
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结果：光线追迹 gG%V 9eOQ  
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快速物理光学仿真 h0oMTiA  
通过场追迹 +`M!D }!  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 B<8N96fx  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 l:6,QaT1  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 \?j E#^  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 MF60-VE  
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