[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 B6 0  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 s;VW %e  
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场景 _,J+b R+b  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 h&>3;Lj  
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系统构建块 }DhqzKl  
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组件求解器 q1}!Okr"2  
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系统构建块 P 45Ir
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总结 ,H]%4@]|o  
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几何光学仿真 meX2Y;  
通过光线追迹 .#( vx;  
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结果：光线追迹 ]m+%y+  
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图片:1-21050H24620F7.png

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快速物理光学仿真 hYJzF.DW<$  
通过场追迹
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 RjWwsC~B  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 '_c/
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图片:1-21050H24JA60.png

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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 t13V>9to  
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图片:1-21050H24QT15.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 a4*v'Xc5  
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总结 6 >kULp  
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