[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 -wl&~}%M  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 "zTy_0[;  
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场景 kX}sDvP3  
Jc]66   
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在VirtualLab Fusion中构建系统 88[u^aC  
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系统构建块 3W#E$^G_v  
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组件求解器 'X6Y!VDd  
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系统构建块 CAom4Sp'  
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总结 v+79#qWK|n  
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几何光学仿真 I} +up,B]o  
通过光线追迹
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结果：光线追迹 ;C:|m7|  
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快速物理光学仿真 B3?rR-2mEE  
通过场追迹 GJ2ZK=/  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 *vIP\NL?H  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 >BK/HuS  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 B>=D$*_  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 IEP|j;~*  

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