[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 J7wIA3.O  
d 9]zB-A  
在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 ;0-R"c)-  
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M/kBAxNIC|  
场景 R]0tG   
PV-B<Y  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 W8M(@* T  
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系统构建块 9>=S@hVMd  
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组件求解器 ;_m;:<  
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系统构建块 r%%@~ \z  
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总结 UL" M?).5  
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几何光学仿真 f |NXibmP  
通过光线追迹 5Q,j+  
j|LOg  
结果：光线追迹 S7b7zJ8A  
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快速物理光学仿真 WQMoAPfqL  
通过场追迹 .M0pb^M  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 PsBLAr\ah  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 xW58B  
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(#+81 Dr  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 Qjmo{'d  

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 zm#%]p80f  
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总结 8F/zrPG  
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