[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 7.*Mmx~]=  
>rYkVlv  
在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 "
.{
'h  
rhDiIO_  
cl'wQ1<:   
场景 pE {yVs  
-cWGF  
xC9?Wt'  
n#5S-z1KNw  
在VirtualLab Fusion中构建系统 P&h]uNu  
Ae;mU[MK/  
系统构建块 )SHB1U25{  
cR=o!2O  
C{>dE:*K^  
G+t=+T2m  
组件求解器 +} y"S-  
IQWoK"B  
3*E] :l_  
3$9V4v@2  
系统构建块 RBLOc$2  
6!C>J#T  
%us#p|Ya  
0_N.s5~N  
总结 i}O.,iH  
q8}he~a  
+`ug?`_  
tHEZuoi  
几何光学仿真 IN,=v+A  
通过光线追迹 r%9=75HA  
Ek60[a  
结果：光线追迹 <rFh93  
ovZ!}  
,hWuAu6.L  
"TVmxE%(  
快速物理光学仿真 ?1**@E0  
通过场追迹 :m<#\!?  
,Fn-SrB:  
在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 7M~/[f7Z{  
PU4-}!K  
P5W58WxT'  
]
!uId#OH  
聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 TUARYJ6=  
xX@9wNYD  
iqFC~].)  
.vie#,la  
在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 WtC&Qyuq  
R+El/ya:6  
i]Bu7Fuu  
z3{Cp:Mn  
聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 <O.|pJus  
ZFX6iAxd  
_}cD_$D  
j^/=.cD|  
总结 W![~"7?  
M^lP`=sSv