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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-03-27
    摘要 8VWkUsOoI  
    S{uKm1a  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 yW@0Q:  
    fS@V`"O6  
    _R/^P>Q?  
    场景 &<Iyb}tA?  
    ='rSB.$Ctk  
    pYxdE|2j  
    S`w_q=-^8  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 hwD;1n  
    ,V`zW<8  
    系统构建块 ]'"aVGqa.  
    BdMmeM2h  
    !EwL"4pPw  
    (9!/bX<  
    组件求解器 <i1.W !%  
    e6 &-f  
    $E >)  
    _x'?igy  
    系统构建块 03)R_A  
    hRc.^"q9  
    <w1# 3Mu'  
    p?Rq  
    总结 7^hwRZJ{  
    C@P4}X0,=  
    s7 K](T4  
    s{Wj&.)M  
    几何光学仿真 ' K\ $B_  
    通过光线追迹 PV(TDb:0  
    USDqh437  
    结果:光线追迹 g~/@`Z2Y  
    rzk-_AFR  
    VV%Q "0 \  
    rn8#nQ>QZ%  
    快速物理光学仿真 =QG0:z)K<v  
    通过场追迹 P;8D|u^\*  
    |to|kU  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 KD(}-zUs  
    xRiWg/Z~  
    K}KgCJ3  
    A}h`%b  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 9$iDK$%  
    5h!ZoB)n  
    OZCbMeB{+J  
    ]A.tauSW  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 q33Z.3R  
     W]aX}>0  
    m1\+~*i  
    i,R+C.6{  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 sfUKH;xC  
    iH;IXv,b3  
    M[}aQWT$v  
    ? 3'O  
    总结 EWZ?q$  
    C%LXGMt  
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