[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 Yv)/DsSyL  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 RPu-E9g@  
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场景 ,&$Y2+  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 %9K@`v-  
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系统构建块 +
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组件求解器 GUxhCoxb  
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系统构建块 8{RiaF8  
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总结 ZO,]h9?4  
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几何光学仿真 GM5::M]fS  
通过光线追迹 O;w';}At  
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结果：光线追迹 1~+w7Ar=(  
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快速物理光学仿真 tNjrd}8s  
通过场追迹 mVxS[Gq  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 Dbgw)n*2  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 N;htKcZ  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 )msqt!Ev  
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总结 [g<JP~4]  
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