[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 ydFY<Mb(o  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 J)-owu;  
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场景 hh?'tb{  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 *[U:'o`67  
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系统构建块 a=J?[qrx  
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组件求解器 Dxe|4"%^  
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系统构建块 Q?>#sN,  
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总结 Cam}:'a/`  
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几何光学仿真  ZBXGuf  
通过光线追迹 bXW)n<y  
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结果：光线追迹 k@~-|\ooG  
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快速物理光学仿真 ZChY:I$<  
通过场追迹 "VeUOdNA>  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 :+5afv}  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 Pjy?&;GvT  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 e.+)0)A-  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 nsp K.*?  
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