[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 9F!&y-  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 uS,$P34^oy  
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场景 - mXr6R?  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 ! .}{ f;Ls  
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系统构建块 Fowh3go  
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组件求解器 eQj/)@B:V  
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系统构建块 >^N:A  
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总结 4y.[tk5  
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几何光学仿真 k6S<46}h|  
通过光线追迹 pT tX[CE  
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结果：光线追迹 \f#ao<vQm  
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快速物理光学仿真 2oLa`33c1  
通过场追迹 4uA^/]ygo  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 <&iBR  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 w3D_ c~  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 +&@0;zSga  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 E12k1gC`  
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总结 
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