[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 zD<8.AIGC  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 -3y
  
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场景 _3NH"o d  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 "zzb`T[8  
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组件求解器 s?&S<k-=fr  
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总结 *UXa.kT@  
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几何光学仿真 3+ 2&9mm  
通过光线追迹 Iz;^D!  
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结果：光线追迹 W^S]"N0u  
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通过场追迹 -V[!qI  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 #XqiXM~^R  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 4d}
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 0ia-D`^me  
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