[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 lA^+Flh  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 &aG*k*  
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场景 Ai"-w"  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 <>Y?vC  
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组件求解器 tPfFqqT  
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系统构建块 Kw5Lhc1V  
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几何光学仿真 5nlMrK  
通过光线追迹 [KJ q  
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结果：光线追迹 58tVx'1y  
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快速物理光学仿真 sTRJ:fR  
通过场追迹 {aYY85j  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 zDTv\3rZ4X  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 9W ^xlid6  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 >slm$~rv  
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