[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 We7~tkl(  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 eK]g FXk  
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图片:1-21050H24230433.jpg

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场景 \
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图片:1-21050H24314539.png

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在VirtualLab Fusion中构建系统 c,WRgXL  
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系统构建块 G/Ll4 :  
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图片:1-21050H24406210.png

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组件求解器 "6.JpUf  
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图片:1-21050H24431134.png

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系统构建块 p7.j>w1F  
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图片:1-21050H24504963.png

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总结 /SLAg&  
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几何光学仿真 c;M7[y&  
通过光线追迹 dV{N,;z  
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结果：光线追迹 }lN@J,q  
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图片:1-21050H24620F7.png

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快速物理光学仿真 AEj
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通过场追迹 NzRpI5\.  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 VUfV=&D-*g  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 -C9_gZ  
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图片:1-21050H24JA60.png


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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 !E\xn^  
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图片:1-21050H24QT15.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 NL})_.Og  
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图片:1-21050H24U19D.png

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总结 FB<#N+L\  
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图片:1-21050H2491WT.png