[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 /i\uwa,  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 C{U[w^X  
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图片:1-21050H24230433.jpg

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场景 U:C-\ M  
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图片:1-21050H24314539.png

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在VirtualLab Fusion中构建系统 D~t"9Z\  
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系统构建块 3(XHF3q  
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图片:1-21050H24406210.png

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组件求解器 ;RTrRh0v  
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图片:1-21050H24431134.png

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系统构建块 H@Or
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图片:1-21050H24504963.png

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总结 e2_r0I^C  
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几何光学仿真 6O[wVaC1u  
通过光线追迹 Y~\`0?ST  
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结果：光线追迹 2rE~V.)%  
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图片:1-21050H24620F7.png

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快速物理光学仿真 #xJGuYdv  
通过场追迹 cxF?&0[mY  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 3 MI) E  
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图片:1-21050H24F9561.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 _|5FrN  
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图片:1-21050H24JA60.png

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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 ]oWZ{#r2  
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图片:1-21050H24QT15.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 GF/x;,Ae  
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图片:1-21050H24U19D.png

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总结 |?t8M9[Z  
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图片:1-21050H2491WT.png