[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 43h06X`  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 hzk!H]>E  
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场景 f_PH?  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 |WS@q'
  
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系统构建块 [Y!HQ9^LEp  
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图片:1-21050H24406210.png

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组件求解器 e8f7*S8  
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系统构建块 JE{cZ<NNH  
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总结 5N>flQ  
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几何光学仿真 ?glx8@  
通过光线追迹 kuBtPZ  
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结果：光线追迹 ?uc]
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图片:1-21050H24620F7.png

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快速物理光学仿真 h`! 4`eI  
通过场追迹 Yur}<>`(  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 2vB,{/GXP  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 Y:+:>[F  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 NR&a er  
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图片:1-21050H24QT15.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 8Dxg6>  
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总结 +NB5Fd4  
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