[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 |M,iM]  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 85Otss/mM  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 i\rDu^VQ  
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几何光学仿真 lJ}_G>GJ  
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结果：光线追迹 sHt]
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通过场追迹 UU;(rS/  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 xSsa(b  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 4U+xb>  
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