[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 G-:7,9  
i]@k'2N  
在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 CeUXGa|C  
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图片:1-21050H24230433.jpg

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场景 FGm!|iI  
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图片:1-21050H24314539.png

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在VirtualLab Fusion中构建系统 %uiCC>cC  
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系统构建块 ;nAx@_ab^  
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图片:1-21050H24406210.png

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组件求解器 U.I7p  
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系统构建块 7xWJw  
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图片:1-21050H24504963.png

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总结 W?ghG  
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几何光学仿真 bB*cd!7y  
通过光线追迹 g]BA/Dw  
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结果：光线追迹 J'WOqAnPZ  
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图片:1-21050H24620F7.png

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快速物理光学仿真 [;:ocy  
通过场追迹 FBzsM7]j  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 -?IF'5z  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 \DD4=XGA  
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图片:1-21050H24JA60.png

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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 ]j$(so"  
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图片:1-21050H24QT15.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 cqm:[0Xf5>  
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图片:1-21050H24U19D.png

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总结 z|(<Co8#.  
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图片:1-21050H2491WT.png