[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 {w.rcObIw+  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 MNNPBE  
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图片:1-21050H24230433.jpg

M@S6V7  
场景 ]?tsYXU j  
O:3pp8  

图片:1-21050H24314539.png

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在VirtualLab Fusion中构建系统 Pp1HOJYJp0  
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系统构建块 ,x}p1EZ  
L)JpMf0  

图片:1-21050H24406210.png

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组件求解器 =NwmhV  
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图片:1-21050H24431134.png

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系统构建块 >I AwNr  
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总结 orCD?vlh  
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几何光学仿真 P0,) Gw  
通过光线追迹 i/R8Gb  
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结果：光线追迹 ~hPp)-A  
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图片:1-21050H24620F7.png

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快速物理光学仿真 iPX6r4-  
通过场追迹 )e|Cd} 2  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 \2)a.2mAz  
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图片:1-21050H24F9561.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 RRig  
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图片:1-21050H24JA60.png

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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 E6|!G  
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图片:1-21050H24QT15.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 .g_BKeU  
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图片:1-21050H24U19D.png

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总结 |^Nz/PN  
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图片:1-21050H2491WT.png