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@uOXNz) 内容简介 Z"d21D~h9` Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 N 8pzs" 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 \os"j 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 rds0EZ4 W XSktbk 讯技科技股份有限公司 "rcV?5?v~
X-F:)/$xG 目录 MmW]U24s Preface 1 K{`3,U2Wx 内容简介 2 13MB1n 目录 i ;*>':-4 1 引言 1 BUU ) Sz 2 光学薄膜基础 2 Vb/XT{T;b 2.1 一般规则 2 {TC_
4Y|8 2.2 正交入射规则 3 SV i{B* 2.3 斜入射规则 6 9@ 8)ZHf 2.4 精确计算 7 ?dQ#%06mn 2.5 相干性 8 PHg(O:3WG 2.6 参考文献 10 wyUfmk_} 3 Essential Macleod的快速预览 10 10ZL-7D#m 4 Essential Macleod的特点 32 BF(Kaf;<t. 4.1 容量和局限性 33 vve[.Lud' 4.2 程序在哪里? 33 1zIrU6H2;_ 4.3 数据文件 35 ke5_lr( 4.4 设计规则 35 C''[[sw'K 4.5 材料数据库和资料库 37 zF_aJ+i:~ 4.5.1材料损失 38 Q_FL8w9D~8 4.5.1材料数据库和导入材料 39 0T<DHPQ1 4.5.2 材料库 41 r&O:Bt}x 4.5.3导出材料数据 43 OYY_@'D 4.6 常用单位 43 e%v0EJ}, 4.7 插值和外推法 46 lKLb\F% 4.8 材料数据的平滑 50 z{G@t0q 4.9 更多光学常数模型 54 DTM
xfQdk 4.10 文档的一般编辑规则 55 0r ilg 4.11 撤销和重做 56 ziG]BZ 4.12 设计文档 57 y*5$B.u`. 4.10.1 公式 58 ka[%p, H 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 k4BiH5\hA 4.10.3 沉积密度 59 )Ga 3Ji}' 4.10.4 平行和楔形介质 60 ul ag$ge 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 gpe-)hD@R 4.10.4 性能 61 R\>=}7 4.10.5 保存设计和性能 64 Yc~c(1VRz 4.10.6 默认设计 64 U66 zm9
3& 4.11 图表 64 : t6.J 4.11.1 合并曲线图 67 ]?j[P=\ 4.11.2 自适应绘制 68
u9,ZY> 4.11.3 动态绘图 68 5wGc"JHm 4.11.4 3D绘图 69 5:
O,-b& 4.12 导入和导出 73
-TKQfd 4.12.1 剪贴板 73 ^]1M8R, 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 =]hPX 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 ]x`I@vSf7R 4.13 背景 77 5ofsJ!b' 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 sp&)1?!M 4.15 生成Rugate 84 x#&%lJT 4.16 参考文献 91 b}5hqIy 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 8CN0Q&| 5.1 Jobs 92 ^f bw0 5.2 创建一个新Job(工作) 93 J3# 5.3 输入材料 94 h?2 :'Vu] 5.4 设计数据文件夹 95 T0Zv. 5.5 默认设计 95 A]CO
Ysc 6 细化和合成 97 ]Qb85;0) 6.1 优化介绍 97 Z|dng6ck 6.2 细化 (Refinement) 98 F!qt#Sw!\ 6.3 合成 (Synthesis) 100 Ex3V[v+D( 6.4 目标和评价函数 101 kpt0spp 6.4.1 目标输入 102 SSG}'W!z 6.4.2 目标 103 c=A)_ZFg 6.4.3 特殊的评价函数 104 VLfE3i4Vwl 6.5 层锁定和连接 104 b|z_1j6U 6.6 细化技术 104 p?+*R@O 6.6.1 单纯形 105 CkA
~'&C 6.6.1.1 单纯形参数 106 vTF_`X 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 ,c_NXC^X? 6.6.2.1 Optimac参数 108 1%,AU 6.6.3 模拟退火算法 109 +:fr(s!OE 6.6.3.1 模拟退火参数 109 3-Xc3A=w 6.6.4 共轭梯度 111 Q g;?C 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 K=mW`XXup 6.6.5 拟牛顿法 112 yvz2eAXa 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 d)7V: 6.6.6 针合成 113 TWFi.w4pY 6.6.6.1 针合成参数 114 V=|X=:fuih 6.6.7 差分进化 114 4)=\5wJDg1 6.6.8非局部细化 115 :6Oh ?y@ 6.6.8.1非局部细化参数 115 =2yg:D 6.7 我应该使用哪种技术? 116 A(>kp=~ 6.7.1 细化 116 PgY q=|]` 6.7.2 合成 117 8!uqR!M<C 6.8 参考文献 117 Q #%C)7) 7 导纳图及其他工具 118 sTALOL< 7.1 简介 118 yAt,XG3 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 $5;RQNhXh 7.2.1 四分之一波长规则 119 O-ZB4hN8 7.2.2 导纳图 120 <M4Qc12jP 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 [rt+KA 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 (Mw<E<f 7.5 斜入射导纳图 141 xRx8E;Q@h? 7.6 对称周期 141 H _%yh,L 7.7 参考文献 142 Ltt+BUJc 8 典型的镀膜实例 143 /6%< |