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wSZMHIW 内容简介 AYsHA w Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 X-CoC
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 O"X7 DgbC 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 l%u8Lq {EVy.F 讯技科技股份有限公司 cUw$F{|W
yr.sfPnJK 目录 R%9,.g< Preface 1 Y!ypG- 内容简介 2 }:s.m8LC5n 目录 i s|[qq7 1 引言 1 ^FTS'/Q 2 光学薄膜基础 2 VTX6_&Hc1g 2.1 一般规则 2 `4Fw,:+e 2.2 正交入射规则 3 Aeq^s 2.3 斜入射规则 6 4T~wnTH0Xg 2.4 精确计算 7 B oiS 2.5 相干性 8 tHM0]Gb} 2.6 参考文献 10 _Db&f}.` 3 Essential Macleod的快速预览 10 5CfD/}{:#I 4 Essential Macleod的特点 32 w)R5@
@C* 4.1 容量和局限性 33 w xaMdA 4.2 程序在哪里? 33 fL-$wK<p< 4.3 数据文件 35 +KTHZpp!c2 4.4 设计规则 35 Zv8GrkK 4.5 材料数据库和资料库 37 HRCnjem/v\ 4.5.1材料损失 38 YB:}Lb 4.5.1材料数据库和导入材料 39 fMM%,/b{ 4.5.2 材料库 41 ]$-<< N{}' 4.5.3导出材料数据 43 9pWSvalw9 4.6 常用单位 43 4#t-?5" 4.7 插值和外推法 46 {lppv(U 4.8 材料数据的平滑 50 BJg 4.9 更多光学常数模型 54 .F$cR^i5u 4.10 文档的一般编辑规则 55 0x^lHBYc 4.11 撤销和重做 56 yGV>22vv
M 4.12 设计文档 57 i
If?K%M7 4.10.1 公式 58 t4hc X[ 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 7y.iXe!P 4.10.3 沉积密度 59 Otf{)f 4.10.4 平行和楔形介质 60 bu08`P9 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 z"Cyjmg" 4.10.4 性能 61 ID{XZ 4.10.5 保存设计和性能 64 );n/G 4.10.6 默认设计 64 p|BoEITL 4.11 图表 64 .t&G^i'n 4.11.1 合并曲线图 67 $ 1m}lXk 4.11.2 自适应绘制 68 zW)Wt.svP 4.11.3 动态绘图 68 :V_UJ3xf 4.11.4 3D绘图 69 |TR
+Wn 4.12 导入和导出 73 uaky2SgN 4.12.1 剪贴板 73 6V#EEb 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 (I35i!F+tY 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 (<e<Q~( 4.13 背景 77 i1bmUKZ8'L 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 *O_^C 4.15 生成Rugate 84 ~sq@^<M)s 4.16 参考文献 91 B$hog_=s 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 M9Nr/jE 5.1 Jobs 92 >6)|>#Wi 5.2 创建一个新Job(工作) 93 }Fox 5.3 输入材料 94 MpIiHKQ
G9 5.4 设计数据文件夹 95 lWT`y 5.5 默认设计 95 rI6+St 6 细化和合成 97 - leYR`P 6.1 优化介绍 97 kJNwA8 7 6.2 细化 (Refinement) 98 ,*?[Rg0]+ 6.3 合成 (Synthesis) 100 $ \o)-3 6.4 目标和评价函数 101 m^,VEV> 6.4.1 目标输入 102 w~Vqg:'\$ 6.4.2 目标 103 wkV'']= Xg 6.4.3 特殊的评价函数 104 @g]EY&Uzl 6.5 层锁定和连接 104 yO* 6.6 细化技术 104 <$otBC/% 6.6.1 单纯形 105 k1s5cg=n( 6.6.1.1 单纯形参数 106 M.:JT31>1 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 j['B9vG 6.6.2.1 Optimac参数 108 k,f/9e+# 6.6.3 模拟退火算法 109 gFTlP 6.6.3.1 模拟退火参数 109 1X9s\JKQ 6.6.4 共轭梯度 111 hhFO, 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 l"jYY3N|h 6.6.5 拟牛顿法 112 LhM$!o?W 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 ~P;A
9A(k 6.6.6 针合成 113 ;K%/sIIke 6.6.6.1 针合成参数 114 gU NWM^n 6.6.7 差分进化 114 BBv+*jj 6.6.8非局部细化 115 ~!cxRd5;F 6.6.8.1非局部细化参数 115 bMNr +N 6.7 我应该使用哪种技术? 116 .aVt d
[ 6.7.1 细化 116 vUOl@UQ5 6.7.2 合成 117 XrWWV2[ 6.8 参考文献 117 +lhCF*@*N 7 导纳图及其他工具 118 =Vazxt@[ 7.1 简介 118 ~1 31|e`C 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 a/1;|1a. 7.2.1 四分之一波长规则 119 aql8Or1[ 7.2.2 导纳图 120 = 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 dM P'Vnfj 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 A^A)arJS 7.5 斜入射导纳图 141 %~gI+0HK 7.6 对称周期 141 BMu Efa^ 7.7 参考文献 142 cDE5/! 8 典型的镀膜实例 143 ^NRf 8.1 单层抗反射薄膜 145 *f`P7q* 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 +oq<}CNr{ 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 Im@OAR4,R 8.4 W-膜层 148 0Oc?:R'$ 8.5 V-膜层 149 b78~{ht` 8.6 V-膜层高折射基底 150 SY%y *6[6 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 ' VKD$q 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 Q~VM.G 8.9 四层抗反射薄膜 153 ~1[n@{*: ( 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 6N5(DD 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 P)J-'2{ 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 Y0A(-" 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 "J=Cy@SSa 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 w D r/T3 8.15十五层宽带抗反射膜 159 hh&$xlO)(v 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 +F2OPIanT~ 8.17 1/4波长堆栈 162 ;l
ZKgi8` 8.18 陷波滤波器 163 N& |