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SLU$DW;t 内容简介 *!^l
ZpF Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 Yfr4<;% 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 r(KAG"5 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ZxB7H{ ps_q3Cyp 讯技科技股份有限公司 3|(<]@
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7U 目录 )F_nK f"a Preface 1 x@3"
SiC 内容简介 2 T# .pi@PF> 目录 i Q 6n!u; 1 引言 1 \:4SN&I~ 2 光学薄膜基础 2 j;BlpRD} 2.1 一般规则 2 -*$ s ;G# 2.2 正交入射规则 3 X]}:WGFM 2.3 斜入射规则 6
yT-qT_. 2.4 精确计算 7 SS6K7 2.5 相干性 8 I8f=' 2.6 参考文献 10 dJ{q}U 3 Essential Macleod的快速预览 10 Z;y(D_;_ 4 Essential Macleod的特点 32 >%H(0G#X 4.1 容量和局限性 33 ,c,@WQ2:- 4.2 程序在哪里? 33 B \LmE+a> 4.3 数据文件 35 l[<U UEjZJ 4.4 设计规则 35 Rga
*68s|& 4.5 材料数据库和资料库 37 \V#fl 4.5.1材料损失 38 d:pGdr& . 4.5.1材料数据库和导入材料 39
<Hr~|oG 4.5.2 材料库 41 ;;|.qgxc~ 4.5.3导出材料数据 43 C6'K)P[p 4.6 常用单位 43 >hY.F/[ 4.7 插值和外推法 46 E[cH/Rm 4.8 材料数据的平滑 50 Lp)P7Yt- 4.9 更多光学常数模型 54 *x:*Q \| 4.10 文档的一般编辑规则 55 F+ %l=
fs 4.11 撤销和重做 56 bTt1y O 4.12 设计文档 57 HR;I}J 9 4.10.1 公式 58 wJC F"e 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 WbwwI)1 4.10.3 沉积密度 59 @'<=EAXe 4.10.4 平行和楔形介质 60 ,KCxNdg^#- 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 i5aY{3! 4.10.4 性能 61 g`C\pdX"B 4.10.5 保存设计和性能 64 5z&>NI 4.10.6 默认设计 64 7,zE?KG / 4.11 图表 64 _2Mpzv 4.11.1 合并曲线图 67 ]iMqIh" 4.11.2 自适应绘制 68 A*g-pJh 4.11.3 动态绘图 68 Y,Lx6kU 4.11.4 3D绘图 69 L2=:Nac 4.12 导入和导出 73 &?$mS'P 4.12.1 剪贴板 73 K^
ALE 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 =*R6O, 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 (vp#?-i 4.13 背景 77 ;W]9DBAB 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 j^%N:BQ& 4.15 生成Rugate 84 ?:h*=0> 4.16 参考文献 91 g^^pPVK_ 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 %>$Puy\U 5.1 Jobs 92 74 &q2g{ 5.2 创建一个新Job(工作) 93 q[GDK^-g
5.3 输入材料 94 7]9,J(:Ed 5.4 设计数据文件夹 95 \!xCmQ 5.5 默认设计 95 6bPl(.(3 6 细化和合成 97 )KEW`BC5T 6.1 优化介绍 97 ]6F\a= J 6.2 细化 (Refinement) 98 {PR "}x 6.3 合成 (Synthesis) 100 !6x7^E;c 6.4 目标和评价函数 101 '/)qI. 6.4.1 目标输入 102 d&\3}uH 6.4.2 目标 103 2$ &B@\WY 6.4.3 特殊的评价函数 104 :_tt9J 6.5 层锁定和连接 104 \Hdsy="Dnh 6.6 细化技术 104 ~Hu!iZ2] 6.6.1 单纯形 105 YN+vk}8 < 6.6.1.1 单纯形参数 106 Z/dhp0k 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 I]DD5l}\ 6.6.2.1 Optimac参数 108 yRIXUCy 6.6.3 模拟退火算法 109 e,,O 6.6.3.1 模拟退火参数 109 lB0`|UEb ( 6.6.4 共轭梯度 111 ^,#my<{ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 bAbR0) 6.6.5 拟牛顿法 112 x|O^#X(, 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 .`Q^8|$-K 6.6.6 针合成 113 #y[U2s Se 6.6.6.1 针合成参数 114 *\(z"B 6.6.7 差分进化 114 |-)8=QDz)r 6.6.8非局部细化 115 yYaoA/0 6.6.8.1非局部细化参数 115 O =;jDWE 6.7 我应该使用哪种技术? 116 tU5uL.( O 6.7.1 细化 116 {}$Zff 6.7.2 合成 117 ![sXR 6.8 参考文献 117 7YR|6{@ 7 导纳图及其他工具 118 TL)*onA9 7.1 简介 118 9}u,`& 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 FJ-H
; 7.2.1 四分之一波长规则 119 &w#! 7.2.2 导纳图 120 Fs].Fa 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 AYgXqmH~+ 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 #c5jCy}n 7.5 斜入射导纳图 141 R(`:~@3\6 7.6 对称周期 141 ^lAM /
7.7 参考文献 142 }f]Y^>-Ux 8 典型的镀膜实例 143 OQ7 `n<I<) 8.1 单层抗反射薄膜 145 YZj*F-} 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 BHf$ %?3z, 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 h693TS_N 8.4 W-膜层 148 7jgj;% 8.5 V-膜层 149 IHYLM;@L 8.6 V-膜层高折射基底 150 jx]P: ] 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 @p
L9a1PJv 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 Vv45w#w; 8.9 四层抗反射薄膜 153 n{FjFlX2= 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 %VH, (}i 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 2lCFE) 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 ~/]]H;;^u 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 o`,~#P| 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 0z8?6~M;< 8.15十五层宽带抗反射膜 159 oojl"j4
8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 0Gc@AG{ 8.17 1/4波长堆栈 162 -}9^$}PR 8.18 陷波滤波器 163 N,c!1:b 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 @kqxN\DE 8.20 褶皱 165 !:^q_q4 8.21 消偏振分光器1 169 L%T(H< |