-
UID:317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2026-04-30
- 在线时间1970小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
^O7sQ7V"f= 内容简介 ~F-knEvL Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 [6l0|Y 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 -hnNaA 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 }'wZ)N@ f{VV U/$ 讯技科技股份有限公司 -b!Z(}JK
:|V650/ 目录 ^9,^BHlC0 Preface 1 P,] ./m\J 内容简介 2 k
?KJ8 目录 i cu>(;= 1 引言 1 >+7{PF+sB 2 光学薄膜基础 2 ~ `}),aA 2.1 一般规则 2 | I:@: 2.2 正交入射规则 3 Rnwm6nu 2.3 斜入射规则 6 $>#0RzU 2.4 精确计算 7 h'em?fN( 2.5 相干性 8 /Yi4j,8!| 2.6 参考文献 10 ep"{{S5g 3 Essential Macleod的快速预览 10 T=YVG@fm? 4 Essential Macleod的特点 32 7Q|<6210 4.1 容量和局限性 33 \}h 4.2 程序在哪里? 33 {K+f&75 4.3 数据文件 35 ]CLM'$ 4.4 设计规则 35 Q SF0?Puf 4.5 材料数据库和资料库 37 t!3s@ 4.5.1材料损失 38 R4 eu,,J 4.5.1材料数据库和导入材料 39 1LS1 ZY 4.5.2 材料库 41 B0|W 4.5.3导出材料数据 43 !{+CzUo@ 4.6 常用单位 43 r}qDvC D 4.7 插值和外推法 46 RdD>&D$I 4.8 材料数据的平滑 50 ?`e@ o? 4.9 更多光学常数模型 54 zB0*KgAn{ 4.10 文档的一般编辑规则 55 B /uaRi% 4.11 撤销和重做 56 }I
uqB*g[t 4.12 设计文档 57 `l'T/F\ 4.10.1 公式 58 P9
HKev?y 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 8>WA5:]v 4.10.3 沉积密度 59 (rhlK}
C 4.10.4 平行和楔形介质 60 kP$E+L 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 V/H+9+B7Im 4.10.4 性能 61 plPPf+\ 4.10.5 保存设计和性能 64 z4_B/Q 4.10.6 默认设计 64 Ojz'p5d`> 4.11 图表 64 <o|fH~?X 4.11.1 合并曲线图 67 '6vo#D9M 4.11.2 自适应绘制 68 `w#VYs|k 4.11.3 动态绘图 68 b||usv[or 4.11.4 3D绘图 69
3}s]F/e 4.12 导入和导出 73 G@Z%[YNw 4.12.1 剪贴板 73 &c!6e<o[p 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 7~+Fec`Ut* 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 dQSO8Jf 4.13 背景 77 uQc("F 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 b?OA |JqX 4.15 生成Rugate 84 az![u) 4.16 参考文献 91 <eMqg u 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 ]@Y!,bw& 5.1 Jobs 92 A^M]vk%dg 5.2 创建一个新Job(工作) 93 |dEPy-Xe 5.3 输入材料 94 67&IaDts 5.4 设计数据文件夹 95 R.WB.FP 5.5 默认设计 95 }0\SNpVN 6 细化和合成 97 sAU%:W{ 6.1 优化介绍 97 ^_3Ey 6.2 细化 (Refinement) 98 :|kO}NGM 6.3 合成 (Synthesis) 100 # *pB"L 6.4 目标和评价函数 101 bP-(N14x+ 6.4.1 目标输入 102 ds+K7B$ 6.4.2 目标 103 @k;65'"Q 6.4.3 特殊的评价函数 104 7"2BZ 6.5 层锁定和连接 104 2?%4|@*H? 6.6 细化技术 104 %T>@Ldt 6.6.1 单纯形 105 Uf+y$n- 6.6.1.1 单纯形参数 106 8hS^8 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 j[i*;0) | 6.6.2.1 Optimac参数 108 e0y.J 6.6.3 模拟退火算法 109 |MKR&%Na 6.6.3.1 模拟退火参数 109 #2i$:c~ 6.6.4 共轭梯度 111 %[KnpJ{\ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 d+)L K~ 6.6.5 拟牛顿法 112 Y>aVnixx< 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 r4[=pfe25 6.6.6 针合成 113 aNKw.S> 6.6.6.1 针合成参数 114 sx azl] 6.6.7 差分进化 114 jt}oq%Bf 6.6.8非局部细化 115 ]vB^% 6.6.8.1非局部细化参数 115 Dti-*LB1 6.7 我应该使用哪种技术? 116 0
N7I:vJ 6.7.1 细化 116 G"&$7!6[Y 6.7.2 合成 117
Txo{6nd/ 6.8 参考文献 117 gYN;Fu-9Z 7 导纳图及其他工具 118 ^k%+ao 7.1 简介 118 wuY-f4 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 i7T#WfF 7.2.1 四分之一波长规则 119 I`XOvSO 7.2.2 导纳图 120 yB7si(,1> 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 !{V`N|0
7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 `f}ZAX 7.5 斜入射导纳图 141 bj0HAgY@ 7.6 对称周期 141 [V_mF 7.7 参考文献 142 Y_faqmZ9] 8 典型的镀膜实例 143 !lzj.|7=1 8.1 单层抗反射薄膜 145 p&Nav,9x 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 f5bX,e)! 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 A4l"^dZc 8.4 W-膜层 148 4N=,9 8.5 V-膜层 149 ;Co"bP's 8.6 V-膜层高折射基底 150 m`zd0IRTP 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 }`
`oojz 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 h{-en50tN 8.9 四层抗反射薄膜 153 rkS'OC 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 ]b}3f< 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 $#e}9g. 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 ;(,GS@sP 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 o"RE4s\G~r 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 dk] 8.15十五层宽带抗反射膜 159 ! weYOOu 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 7Y~5gn 8.17 1/4波长堆栈 162 kKbbsB 8.18 陷波滤波器 163 ~7}no}7 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 n}Thc6f3D 8.20 褶皱 165 UE_>@_T 8.21 消偏振分光器1 169 oU3gy[wF;b 8.22 消偏振分光器2 171 6k,@+@]t. 8.23 消偏振立体分光器 172 H"pYj 8.24 消偏振截止滤光片 173 P/~dY[6m 8.25 立体偏振分束器1 174 ~qb?#IY]` 8.26 立方偏振分束器2 177 Jt8M;Yk 8.27 相位延迟器 178 oKSW:A 8.28 红外截止器 179 n$j B"1 8.29 21层长波带通滤波器 180
ArX*3 8.30 49层长波带通滤波器 181 u(r
T2 8.31 55层短波带通滤波器 182 ~:!& |