时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 vm4q1!!(
授课时间:2024/4/12(五)-4/14(日)共 3 天 AM 9:00-PM 16:00 ; w+<yW}EL
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路 819 号中暨大厦 18 楼 1805 室 +x:-W0C:
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 >7j(V`i"y
课程费用:4800RMB(课程包含课程材料费、开票税金、午餐费用) n1+,Pe*)
课程简介:当收到需求者的光学规格及非光学规格如环境测试要求时,既可以着手选用所需的基板,镀膜材料及膜数与厚度设计。设计开始可以从标准膜系着手,例如高反射镜不管波宽大小,开始我们一定是以四分之一波膜堆为设计基础,倘若是截止滤光片,则应以对称膜堆为设计基础。当初始设计无法满足要求时,我们需要考虑商业软件或自行设计电脑软件来参与合成或优化,设计好之后,即刻进行制造成功率分析,亦看膜层厚度的误差值的容许度,若是镀膜机的精密度做不到,则要修改设计,重新分析直达合格为止。透明塑料基板质轻价廉,而且容易成型为非球面透镜,被广泛采用在光学系统中,如眼睛镜片、相机透镜、手机镜头、及显示器面板,如 OLED,近眼显示应用。但塑性及软性基板的低密度致使其具有吸水性,从而使薄膜与基板的附着性不佳。再者这些塑料基板比较柔软、容易刮伤、需要镀上硬膜保护。因此塑料透镜的镀膜除了抗反射,还要兼具免受刮伤的保护。本课程会从这些方面重点阐述塑料基底的镀制工艺及其物理特性。该课程一天会全面讲解光学薄膜分析软件 Essential Macleod 的操作方法,第二天和第三天会讲解薄膜设计和工艺上面的应用。 >^(Q4eU7!
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课程大纲: ^iz2=}Q8
1. Essential Macleod 软件介绍1.1 介绍软件1.2 运行程序1.3 创建一个简单的设计1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据1.5 约定-程序中使用的各种术语的定义 rn"}@5
2. 光学薄膜理论基础 n=tg{_9f%
2.1 介质和波 +:m'a5Dm
2.2 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 W
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2.3 后表面对光学薄膜特性的影响 ]xf|xs
3. 理论技术 WlfS|/\%V^
3.1 参考波长与 g ]id5jVY
3.2 四分之一规则 x"xtILrI
3.3 导纳与导纳图 69K*]s
4. 光学薄膜设计 Ey* *j
4.1 光学薄膜设计的进展 Ii4lwZnz
4.2 光学薄膜设计中的一些实际问题 dt=5 Pnf[y
4.3 光学薄膜设计技巧 Q?"-[6[v
4.4 特殊光学薄膜的设计方法 5p5S_%R$e
4.5 优化目标设置 pGh A
4.6 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) Bp:i[9w
5.常规光学薄膜系统设计与分析 n]]!:jFC
5.1 减反射薄膜 J^]Y`Q`
5.2 分光膜 fsVQZ$h73
5.3 高反射膜 Tx!c}
5.4 干涉截止滤光片 '@Q
aeFm
5.5窄带滤光片 H;nq4;^yK
5.6负滤光片 AroXf#.
5.7 非均匀膜与Rugate滤光片 EPMdR66
5.8 Vstack薄膜设计示例 d}e/f)(
5.9 Stack应用范例说明 _m8JU
6.VR、AR及HUD用光学薄膜 +""8aA
6.1 背景介绍 I_/kJ#7vj
6.2 产品特性
l|onH;g\
6.3 典型VR系统光学薄膜设计分析
{@gTs
6.4 典型AR系统光学薄膜设计分析 p"XQJUuD
6.5 典型HUD系统光学薄膜设计分析 #7~i.8L
7.防雾薄膜 %`Q<_LTU
7.1自清洁效应 k2S6 SB
7.2 超亲水薄膜 =W
Q_5}
7.3 超疏水薄膜 3"OD"
7.4防雾薄膜的制备 gbJz5EEq
7.5防雾薄膜的性能测试 3%$nRP
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8.材料管理 BHW8zY=F
8.1 光学薄膜材料性能及应用评述 ?MhY;z`=
8.2 金属与介质薄膜 3#@ETt0X(
8.3 材料模型 zXH CP.Rmg
8.4 介质薄膜光学常数的提取 {Noa4i
8.5 金属薄膜光学常数的提取 P{!r<N
8.6 基板光学常数的提取 I8 \Ka=w
8.7 光学常数导出遇到的问题及解决思路 Vgh_F8G!V
9.薄膜制备技术 b-x,`s
9.1 常见薄膜制备技术 TLk=HGw
9.2 光学薄膜制备流程 ZxRD+`
9.3 淀积技术 ZJxUv
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9.4 工艺因素 f9Hm2wV
10. 误差、容差与光学薄膜监控技术 Jm+hDZrW
10.1光学薄膜监控技术 T"2D<7frbo
10.2误差分析与监控决策 p ^U:O&U(
10.3Runsheet与Simulator应用技巧 |<n+6
10.4膜系灵敏度分析 e Ert_@}
10.5膜系容差分析 Z ?{;|Z5
10.6误差分析工具 \HzI*|*A
11. 反演工程11.1 镀膜过程中两种主要的误差(系统误差和随机误差) uW8LG\Z>D5
11.2 用反演工程来控制对设计的搜索 wER>a (
12. 应力、张力、温度和均匀性工具 4oF8F)ASj
12.1 光学性质的热致偏移 1o;+.]B
12.2 应力工具 P"<