时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 Ui`Z>,0sFi
授课时间:2024/4/12(五)-4/14(日)共 3 天 AM 9:00-PM 16:00 IvyBK]{|
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路 819 号中暨大厦 18 楼 1805 室 k9<P]%
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 g4 |s9RMD
课程费用:4800RMB(课程包含课程材料费、开票税金、午餐费用) &qP&=( $
课程简介:当收到需求者的光学规格及非光学规格如环境测试要求时,既可以着手选用所需的基板,镀膜材料及膜数与厚度设计。设计开始可以从标准膜系着手,例如高反射镜不管波宽大小,开始我们一定是以四分之一波膜堆为设计基础,倘若是截止滤光片,则应以对称膜堆为设计基础。当初始设计无法满足要求时,我们需要考虑商业软件或自行设计电脑软件来参与合成或优化,设计好之后,即刻进行制造成功率分析,亦看膜层厚度的误差值的容许度,若是镀膜机的精密度做不到,则要修改设计,重新分析直达合格为止。透明塑料基板质轻价廉,而且容易成型为非球面透镜,被广泛采用在光学系统中,如眼睛镜片、相机透镜、手机镜头、及显示器面板,如 OLED,近眼显示应用。但塑性及软性基板的低密度致使其具有吸水性,从而使薄膜与基板的附着性不佳。再者这些塑料基板比较柔软、容易刮伤、需要镀上硬膜保护。因此塑料透镜的镀膜除了抗反射,还要兼具免受刮伤的保护。本课程会从这些方面重点阐述塑料基底的镀制工艺及其物理特性。该课程一天会全面讲解光学薄膜分析软件 Essential Macleod 的操作方法,第二天和第三天会讲解薄膜设计和工艺上面的应用。 DVq5[ntG
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课程大纲: B@W`AD1^{
1. Essential Macleod 软件介绍1.1 介绍软件1.2 运行程序1.3 创建一个简单的设计1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据1.5 约定-程序中使用的各种术语的定义 <X_I`
2. 光学薄膜理论基础 oopACE>
2.1 介质和波 ,D`iV| (
2.2 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 IA XoEBlMs
2.3 后表面对光学薄膜特性的影响 zLxO\R!d
3. 理论技术 8 3wa{m:
3.1 参考波长与 g
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3.2 四分之一规则
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3.3 导纳与导纳图 !5P\5WF~Y
4. 光学薄膜设计 M6P`~emX2
4.1 光学薄膜设计的进展 v}$KlT
4.2 光学薄膜设计中的一些实际问题 f|f9[h'
4.3 光学薄膜设计技巧 *3A[C-1~.
4.4 特殊光学薄膜的设计方法 6:(*u{
4.5 优化目标设置 Ok=RhoZZ
4.6 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) Wm/0Y'$r&k
5.常规光学薄膜系统设计与分析 q >|:mXR
5.1 减反射薄膜 zMkjdjb
5.2 分光膜 <y}`PmIM I
5.3 高反射膜 #q"^6C
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5.4 干涉截止滤光片 (gv1f
5.5窄带滤光片 wYrb P11
5.6负滤光片 0OndSa,
5.7 非均匀膜与Rugate滤光片 1h.N
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5.8 Vstack薄膜设计示例 m\88Etl@
5.9 Stack应用范例说明 Lii,L}
6.VR、AR及HUD用光学薄膜 JEK6Ms;)A
6.1 背景介绍 J<<0U;
6.2 产品特性 =!b<@41
6.3 典型VR系统光学薄膜设计分析 oc>ne]_'
6.4 典型AR系统光学薄膜设计分析 H\\0V.}!
6.5 典型HUD系统光学薄膜设计分析 i 5"g?Wa2N
7.防雾薄膜 y^#jM
7.1自清洁效应 X/_e#H0
7.2 超亲水薄膜 _Kp{b"G
7.3 超疏水薄膜 G.3qg%
7.4防雾薄膜的制备 ^;b$`*M1
7.5防雾薄膜的性能测试 n y7G
8.材料管理 v(T;Y=&
8.1 光学薄膜材料性能及应用评述 J1^6p*]GX
8.2 金属与介质薄膜 meHAa`
8.3 材料模型 $DmWK_A
8.4 介质薄膜光学常数的提取 Rl7V~dUY
8.5 金属薄膜光学常数的提取 d3fF|Wp1
8.6 基板光学常数的提取 n1n1}
8.7 光学常数导出遇到的问题及解决思路 >g]S"ku|
9.薄膜制备技术 z:hY{/-
9.1 常见薄膜制备技术 :h 1-i
9.2 光学薄膜制备流程 T>l=0a #
9.3 淀积技术 ;~Ke5os=s
9.4 工艺因素 ;O*y$|+PA
10. 误差、容差与光学薄膜监控技术 &wbe^Wp
10.1光学薄膜监控技术 `c^ _5:euX
10.2误差分析与监控决策 )&"l3*x
10.3Runsheet与Simulator应用技巧 h2 2-vX
10.4膜系灵敏度分析 xF'9`y^]!@
10.5膜系容差分析 FnN@W^/z
10.6误差分析工具 N#-P}\Q9
11. 反演工程11.1 镀膜过程中两种主要的误差(系统误差和随机误差) PK#; \Zw
11.2 用反演工程来控制对设计的搜索 ;Ocih<4k
12. 应力、张力、温度和均匀性工具 B{ wx"mK
12.1 光学性质的热致偏移 `B+P$K<