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Z*)y.i ` 内容简介 sx-Hw4.a" Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 cpF1Xp vT 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 7S dV%" 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 kh>SrW]B% 1 ~B< 讯技科技股份有限公司 n$OE~YwP{
]4 K1%ZV 目录 l#5~t|\ Preface 1 _,Rsl$Tk' 内容简介 2 b5n]Gp 目录 i }W__ffH 1 引言 1 ,>QMyI
hv 2 光学薄膜基础 2 )4'x7Qg/ 2.1 一般规则 2 M8#*zCp{5 2.2 正交入射规则 3 StdS$XW 2.3 斜入射规则 6 4(Cd 2.4 精确计算 7 r{_B: 2.5 相干性 8 { /F rs*AF 2.6 参考文献 10 t4jd
KYA 3 Essential Macleod的快速预览 10 _\4` 4 Essential Macleod的特点 32 n ,&/D 4.1 容量和局限性 33 !e:iB7< 4.2 程序在哪里? 33 ##EB; Y 4.3 数据文件 35 H4}%;m% 4.4 设计规则 35 eC+"mhB 4.5 材料数据库和资料库 37 EI=Naq 4.5.1材料损失 38 ^6)GS%R 4.5.1材料数据库和导入材料 39 l\T!)Ql 4.5.2 材料库 41 LL= Z$U
$ 4.5.3导出材料数据 43 |P,zGy 4.6 常用单位 43 m?D
<{BQ; 4.7 插值和外推法 46 u{OS6Ky 4.8 材料数据的平滑 50 N"Qg\PS_ 4.9 更多光学常数模型 54 gnQo1q{ 4 4.10 文档的一般编辑规则 55 eq@am(#&kY 4.11 撤销和重做 56 ;t;Y.*&=S 4.12 设计文档 57 @)W(q5)}9" 4.10.1 公式 58 =9qGEkd3 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 z.2r@Psk 4.10.3 沉积密度 59 |+Hp+9J 4.10.4 平行和楔形介质 60 :mXGIRi 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 _KB{J7bs<a 4.10.4 性能 61 "*++55 4.10.5 保存设计和性能 64 T~i%j@Q.6 4.10.6 默认设计 64 W>5vRwx00 4.11 图表 64 AW,v 4.11.1 合并曲线图 67 GI2eJK 4.11.2 自适应绘制 68 ia%z+:G 4.11.3 动态绘图 68 H&w:`JYDL3 4.11.4 3D绘图 69 (O)\#%,@R 4.12 导入和导出 73 j[J5y# 4.12.1 剪贴板 73 =jg#fdM
- 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 jd%Len&p 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 B :.@Qi^ 4.13 背景 77 }xAie( 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 0bMoUy*q 4.15 生成Rugate 84 q"gqO%Wb| 4.16 参考文献 91 EMVk:Vt] 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 _GVE^yW~z 5.1 Jobs 92 A}t %;V2 5.2 创建一个新Job(工作) 93 V]I:2k5 5.3 输入材料 94 IDy_L;'`* 5.4 设计数据文件夹 95 ~bdv_|k 5.5 默认设计 95 k:b/Gq` 6 细化和合成 97 uije#cj#O 6.1 优化介绍 97 &+mV7o 6.2 细化 (Refinement) 98 ~I{EE[F>qL 6.3 合成 (Synthesis) 100 D
Irgq|8 6.4 目标和评价函数 101 KcC!N{ 6.4.1 目标输入 102 63W{U/*aao 6.4.2 目标 103 4p.^'2m 6.4.3 特殊的评价函数 104 '
|&>/dyq 6.5 层锁定和连接 104 :.*HQt9N 6.6 细化技术 104 `NBbTQtgO 6.6.1 单纯形 105 K&=D-50% 6.6.1.1 单纯形参数 106 >\V6+$cNp 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 \|CPR6I 6.6.2.1 Optimac参数 108 DH
6q7"@ 6.6.3 模拟退火算法 109 y|$R`P 6.6.3.1 模拟退火参数 109 Vclr)}5 6.6.4 共轭梯度 111 ~12_D'8D[ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 MkwU<ae AB 6.6.5 拟牛顿法 112 qAoAUDm 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 \tY"BC4. 6.6.6 针合成 113 qu_)`wB 6.6.6.1 针合成参数 114 '"y}#h__T 6.6.7 差分进化 114 I%oRvg|q 6.6.8非局部细化 115 ebqg"tPN{ 6.6.8.1非局部细化参数 115 MDJc[am 6.7 我应该使用哪种技术? 116 U4BqO
:sd 6.7.1 细化 116 \K;op2 6.7.2 合成 117 8".2)W4*
6.8 参考文献 117 e}c&LDgU 7 导纳图及其他工具 118 dL-i)F
7.1 简介 118 NUCiY\td 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 ._?V%/ 7.2.1 四分之一波长规则 119 W{
fZ[z 7.2.2 导纳图 120 @5xu>g Kn 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 Z7fg
25 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 sYJL-2JX 7.5 斜入射导纳图 141 .u l
53 m 7.6 对称周期 141 yub{8 f;v 7.7 参考文献 142 mzWP8Hlw 8 典型的镀膜实例 143 }Dn^d}?s|| 8.1 单层抗反射薄膜 145 Y25^]ON*\^ 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 `H>b5 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 l4rMk^>> 8.4 W-膜层 148 LXj5R99S 8.5 V-膜层 149 j(iuz^I 8.6 V-膜层高折射基底 150 uRE*%d> 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 {^#2=`:)O 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 `0{ S3v 8.9 四层抗反射薄膜 153 0"78/6XIs 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 d|XmasGN 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 qTT,U9]: 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 5u r)uz]w8 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 w&Y{1r F> 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 MuwQZ]u 8.15十五层宽带抗反射膜 159 mk!Dozb/ 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 8Hi!kc;f6> 8.17 1/4波长堆栈 162 7\ypW $Ot 8.18 陷波滤波器 163 a8pY[)^c 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 [ %}u=}@ 8.20 褶皱 165 7G< |