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?C* }NM 内容简介 0^mCj<g Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 Z@6xu;O 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 !T
RU 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 'l6SL-
< ]3I@5 }5% 讯技科技股份有限公司 a|kEza,]
]qO*(m:}o 目录 [,Fu2j] Preface 1 Y?xc#' 内容简介 2 eoxEnCU 目录 i qX:YI3:,@ 1 引言 1 \fJ _, 2 光学薄膜基础 2 p"d_+ 2.1 一般规则 2 \VHRI<$+5 2.2 正交入射规则 3 Hd?#^X 2.3 斜入射规则 6 U)] }EgpF 2.4 精确计算 7 Wh^wKF~% 2.5 相干性 8 !MEA@^$# 2.6 参考文献 10 k293wS 3 Essential Macleod的快速预览 10 !;E{D 4 Essential Macleod的特点 32 5m9;'SF 4.1 容量和局限性 33 ~vB dq Yj 4.2 程序在哪里? 33 iG+=whvL 4.3 数据文件 35 2}U:6w 4.4 设计规则 35 L^e%oQ>s 4.5 材料数据库和资料库 37 Q&8epO |J 4.5.1材料损失 38 }E#1Z\) 4.5.1材料数据库和导入材料 39 $\q}A: 4.5.2 材料库 41 |C}= 1 4.5.3导出材料数据 43 _l=X?/ 4.6 常用单位 43 F~wqt7* 4.7 插值和外推法 46 *nlDN4Y[ 4.8 材料数据的平滑 50 QS%t:,0lp 4.9 更多光学常数模型 54 tG*HUN?* 4.10 文档的一般编辑规则 55 Y;#H0v>E 4.11 撤销和重做 56 =PYS5\k 4.12 设计文档 57 F&$~]R=& 4.10.1 公式 58 Cp^`-=r+ 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 M s Q=1 4.10.3 沉积密度 59 >(C5&3^ 4.10.4 平行和楔形介质 60 A@)ou0[n@ 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 \
k &ZA 4.10.4 性能 61 wG
X\ub#! 4.10.5 保存设计和性能 64 ub]"b[j\1 4.10.6 默认设计 64 !+_X q$9_ 4.11 图表 64 lD6PKZ\RIj 4.11.1 合并曲线图 67 DsH#?h<-o 4.11.2 自适应绘制 68 o?S!o} 4.11.3 动态绘图 68 csj4?]gI 4.11.4 3D绘图 69 Ti&v9re%wO 4.12 导入和导出 73 !NTt'4/F{ 4.12.1 剪贴板 73 !xE@r,'oN 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 J=Hyoz+9 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 li9>zjz 4.13 背景 77 5#Et.P' 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 {!xDJnF; 4.15 生成Rugate 84 ')>D*e 4.16 参考文献 91 PH>`//D%n? 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 %a|m[6+O 5.1 Jobs 92 {QVs[
J1 5.2 创建一个新Job(工作) 93 :I8HRkp 5.3 输入材料 94 8y'.H21:; 5.4 设计数据文件夹 95 cBQ+`DXn5c 5.5 默认设计 95 H0-v^H>^ 6 细化和合成 97 SHRn$< 6.1 优化介绍 97 Lc_cB` 6.2 细化 (Refinement) 98 *Qy,?2 6.3 合成 (Synthesis) 100 N `[ ?db-% 6.4 目标和评价函数 101 #sM*<2vj 6.4.1 目标输入 102 *H~&hs>k 6.4.2 目标 103 mT,#"k8 6.4.3 特殊的评价函数 104 /ommM 6.5 层锁定和连接 104 ` NCH^) 6.6 细化技术 104 9}z%+t8u 6.6.1 单纯形 105 Zx)gLDd 6.6.1.1 单纯形参数 106 R<;;Ph 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 $y,tR.5.)[ 6.6.2.1 Optimac参数 108 bp>M&1^KY 6.6.3 模拟退火算法 109 sE! $3|Q 6.6.3.1 模拟退火参数 109 ?<1~KLPMhY 6.6.4 共轭梯度 111 o8fY!C) 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 i!yE#zew 6.6.5 拟牛顿法 112 CvRO' 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 @k)[p+)E 6.6.6 针合成 113 $^`@ lyr 6.6.6.1 针合成参数 114 a V#phP 6.6.7 差分进化 114 0A')zKik 6.6.8非局部细化 115 "~L$oji 6.6.8.1非局部细化参数 115 6mV^akapv 6.7 我应该使用哪种技术? 116 #3_
@aq* 6.7.1 细化 116 6UM1>xq9A 6.7.2 合成 117 Pxf /*z 6.8 参考文献 117 >tE6^7B* 7 导纳图及其他工具 118 IqqBUH 7.1 简介 118
75;g|+ 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 6 tl#AJ- 7.2.1 四分之一波长规则 119 dP=,<H#]m 7.2.2 导纳图 120 e*M-y C 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 sBLOrbo 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 t"P:}ps{? 7.5 斜入射导纳图 141 5em*9Ko 7.6 对称周期 141 MzE1he1 7.7 参考文献 142 A~H@0>1 8 典型的镀膜实例 143 5
Q/yPQN 8.1 单层抗反射薄膜 145 2yV^'o) 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 :Z+Jt=;
8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 BbhC0q"J 8.4 W-膜层 148 ]A:8x`z#F 8.5 V-膜层 149 .JV y}^Q\ 8.6 V-膜层高折射基底 150 cVli^*se 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 v {)8QF] 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 )j. .)o 8.9 四层抗反射薄膜 153 -Eoq#ULvR 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 WWT1_&0 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 U04&z 91" 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 tgY/8&$M 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 X'j9l4Ph7 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 6pbtE] 8.15十五层宽带抗反射膜 159 " -S@R=bi 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 J~AmRo0!k 8.17 1/4波长堆栈 162 A45!hhf 8.18 陷波滤波器 163 &Qq| 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 4+MaV<!tU^ 8.20 褶皱 165 O]KQ]zN 8.21 消偏振分光器1 169 b-Ru UfUn0 8.22 消偏振分光器2 171 cp6I]#X 8.23 消偏振立体分光器 172 d6)+d9?< |