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%|Gi'-'|b$ 内容简介 h|dVVCsN Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 8nQlmWpJ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 u.0Z)j}N 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 2Y&z}4'j oScHmGFv 讯技科技股份有限公司 ]1%H.pF
n<\^&_a 目录 >Fz_]z Preface 1 ?AyG!F 内容简介 2 W!I"rdo;V 目录 i z]Z>+| 1 引言 1 >9F,=63A 2 光学薄膜基础 2 88d0`6K-9 2.1 一般规则 2 ;7 i0ko9 2.2 正交入射规则 3 O?D*<rwD 2.3 斜入射规则 6 1;SW%\M 2.4 精确计算 7 LcE!e%3 2.5 相干性 8 ;%]Q%7 2.6 参考文献 10 Pp:(PoH 3 Essential Macleod的快速预览 10 XV)ej>A-V 4 Essential Macleod的特点 32 sqei(OXy 4.1 容量和局限性 33 @= 6}w_ 4.2 程序在哪里? 33 R8Lp8!F' 4.3 数据文件 35 )#T(2A 4.4 设计规则 35 h -+vM9j 4.5 材料数据库和资料库 37 `BMg\2Ud* 4.5.1材料损失 38 C#p$YQf 4.5.1材料数据库和导入材料 39 }Nl-3I.S^ 4.5.2 材料库 41 rcq(p(! 4.5.3导出材料数据 43 tn6\0_5n 4.6 常用单位 43 qUx!-DMY 4.7 插值和外推法 46 !V Zl<| 4.8 材料数据的平滑 50 7&:gvhw 4.9 更多光学常数模型 54 eek5Xm 4.10 文档的一般编辑规则 55 4Me*QYD 4.11 撤销和重做 56 s8{3~ Hv 4.12 设计文档 57 D._q'v< 4.10.1 公式 58 TWEmW&Q 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 8Y
sn8 4.10.3 沉积密度 59 mDvZ1aj 4.10.4 平行和楔形介质 60 ^]Lr_k 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 0D/j2cT("k 4.10.4 性能 61 so8isDC'9 4.10.5 保存设计和性能 64 w%VHq z$ 4.10.6 默认设计 64 K;_p>bI5 4.11 图表 64 =YB3^Z 4.11.1 合并曲线图 67 *r?g&Vw$m 4.11.2 自适应绘制 68 nC qUg_{D 4.11.3 动态绘图 68 O%tlj@? 4.11.4 3D绘图 69 NV9D;g$Y 4.12 导入和导出 73 5X|=qZ 4.12.1 剪贴板 73 ^EjZ.#2l; 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 \QBODJ1 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 "\vEi
&C 4.13 背景 77 `{N0+n 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 {LbcG^k 4.15 生成Rugate 84 SBAq,F' 4.16 参考文献 91 rV"<1y:g 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 d&(GIH E&d 5.1 Jobs 92 S$%T0~PR~ 5.2 创建一个新Job(工作) 93 ^uMy|d 5.3 输入材料 94 TRcY! 5.4 设计数据文件夹 95 XtNe) Ry 5.5 默认设计 95 zW!3>(L/ 6 细化和合成 97 9&g//JlD 6.1 优化介绍 97 KU"?ZI 6.2 细化 (Refinement) 98 )2g\GRg6 6.3 合成 (Synthesis) 100 ]B:g<}5$4 6.4 目标和评价函数 101 uwyzxj 6.4.1 目标输入 102 hc"+6xc 6.4.2 目标 103 x!{5.# 6.4.3 特殊的评价函数 104 -F/"W 6.5 层锁定和连接 104 37v!:xF! 6.6 细化技术 104 d@b"tb}R 6.6.1 单纯形 105 gPT-zul 6.6.1.1 单纯形参数 106 (%oZgvM 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 a"b9h{h@ 6.6.2.1 Optimac参数 108 KCe =$ 6.6.3 模拟退火算法 109 B$ +YK%I 6.6.3.1 模拟退火参数 109 F8Rd#^9PD 6.6.4 共轭梯度 111
ZQD_w#0j 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 5MQD:K2 6.6.5 拟牛顿法 112 9FP6Z[4 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 ?#<Fxme 6.6.6 针合成 113 e/r41 6.6.6.1 针合成参数 114 X<x"\Yk 6.6.7 差分进化 114 n (C*LK 6.6.8非局部细化 115 [~W"$sT 6.6.8.1非局部细化参数 115 8%_XJyg 6.7 我应该使用哪种技术? 116 Agl5[{]E 6.7.1 细化 116 y{uRh>l 6.7.2 合成 117 Cj _Q9/ 6.8 参考文献 117 54JZEc 7 导纳图及其他工具 118 (Vf&,b@U_ 7.1 简介 118 - A
x$ Y 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 4+:Q" 7.2.1 四分之一波长规则 119 VSx[{yn 7.2.2 导纳图 120 HN7(-ml=B 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 /j0<x^m/ 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 MQ$[jOAqP 7.5 斜入射导纳图 141 eZ[CqUJ& |