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x9VR>ux& 内容简介 UBvea(z-# Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 Q{+N{/tF 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 #&ZwQw 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 uGH>|V9'c fI1,L" 讯技科技股份有限公司 dUL3UY3
!L_\6;aP,x 目录 gl~>MasV& Preface 1 [agp06 $D? 内容简介 2 CP!>V:w%9! 目录 i 0x]WW|se* 1 引言 1 x7l3&;yDv 2 光学薄膜基础 2 XhEd9># 2.1 一般规则 2 Pn|*(sTl 2.2 正交入射规则 3 MC&sM-/ 2.3 斜入射规则 6 UuvI?D 2.4 精确计算 7 V[T`I a\ 2.5 相干性 8 yYM_ 2.6 参考文献 10 s j{i 3 Essential Macleod的快速预览 10 dwAFJhgh 4 Essential Macleod的特点 32 *Af:^>mh 4.1 容量和局限性 33 1JXa/f+ 4.2 程序在哪里? 33 &?mJL0fy 4.3 数据文件 35 vkQkU,q 4.4 设计规则 35 k9pOY]_Y 4.5 材料数据库和资料库 37 :RE.m d 4.5.1材料损失 38 4PzCm k 4.5.1材料数据库和导入材料 39 V)8d1S 4.5.2 材料库 41 amY\1quD| 4.5.3导出材料数据 43 OPsg3pW!] 4.6 常用单位 43 kxp, ZP 4.7 插值和外推法 46 J` J^C 4.8 材料数据的平滑 50 B5Y
3GWhrx 4.9 更多光学常数模型 54 Dtw1q- 4.10 文档的一般编辑规则 55 5VG[FY6Pl 4.11 撤销和重做 56 &hb:~> 4.12 设计文档 57 %8a886;2 4.10.1 公式 58 8NRc+@f|m 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 39(]UO6^; 4.10.3 沉积密度 59 /X_g[*]? 4.10.4 平行和楔形介质 60 bEJz>oyW" 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 05cyWg9a 4.10.4 性能 61 J<4egk4 4.10.5 保存设计和性能 64 sw'?&:<"Ow 4.10.6 默认设计 64 Pgg\(D#X` 4.11 图表 64 Rr|&~%#z 4.11.1 合并曲线图 67 6.!Cm$l 4.11.2 自适应绘制 68 ]
3@.) 4.11.3 动态绘图 68 |E YJbL;1% 4.11.4 3D绘图 69 `Y~EL? 4.12 导入和导出 73 mu?6Phj 4.12.1 剪贴板 73 "
tUS>c/ 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 !F_BLHig 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 9$u'2TV 4.13 背景 77 Z`=[hu 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 cJnAwIs_e` 4.15 生成Rugate 84 e)WpqaI 4.16 参考文献 91 g{}{gBplnl 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 xA-u%Vf7@ 5.1 Jobs 92 ^K#PcPF-j 5.2 创建一个新Job(工作) 93 eXqS9`zKr 5.3 输入材料 94 cCoa3U/ 5.4 设计数据文件夹 95 $]Vvu{ 5.5 默认设计 95 ^" EsBt 6 细化和合成 97 zIyMq3 6.1 优化介绍 97 0=2D90 6.2 细化 (Refinement) 98 MifPZQ 6.3 合成 (Synthesis) 100 dvAvG.;U 6.4 目标和评价函数 101 ;;9W/m~] 6.4.1 目标输入 102 %6vf~oG 6.4.2 目标 103 Uo!#p'<w)p 6.4.3 特殊的评价函数 104 &{Zt(%\ ' 6.5 层锁定和连接 104 YB^[HE\#y 6.6 细化技术 104 f<`is+" 6.6.1 单纯形 105 j}2,|9ne 6.6.1.1 单纯形参数 106 {q[l4_ 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 *[-% .=[7 6.6.2.1 Optimac参数 108 %YI Xk1 6.6.3 模拟退火算法 109 yH'vhtop 6.6.3.1 模拟退火参数 109 nnV(MB4z1 6.6.4 共轭梯度 111 X_}2xo|T 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 ]5+db0 6.6.5 拟牛顿法 112 J 5Nz< 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 \Qh{uk[ 6.6.6 针合成 113 +$hqwNh@Z@ 6.6.6.1 针合成参数 114 d Q5_=(9 6.6.7 差分进化 114 =Mb1)^m 6.6.8非局部细化 115 1@j0kTJ~m 6.6.8.1非局部细化参数 115 $\0%"S 6.7 我应该使用哪种技术? 116 ^=H. .pr 6.7.1 细化 116 ~JJuM 6.7.2 合成 117 |hp_<F9. 6.8 参考文献 117 %V>Ss9;/8 7 导纳图及其他工具 118 t4a/\{/#9| 7.1 简介 118 oA^aT:o + 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 ?Mb'l4 7.2.1 四分之一波长规则 119 x*G-?Xza) 7.2.2 导纳图 120 .o(XnY)cgJ 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 V'XmMn)! 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 G d".zsn 7.5 斜入射导纳图 141 [7Yfv
Xp 7.6 对称周期 141 k* ayzg3F> 7.7 参考文献 142 %6\e_y% 8 典型的镀膜实例 143 DriJn`vtzq 8.1 单层抗反射薄膜 145 E^:8Jehq 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 u7_IO 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 \
2$nFr?0 8.4 W-膜层 148 {&2aH>V/ 8.5 V-膜层 149 lG\6z"K 8.6 V-膜层高折射基底 150 y~.k-b<{[ 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 ;b(*Bh< 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 03F%!Rm/j 8.9 四层抗反射薄膜 153 Ue>;h9^ 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 3fS+,>s\O 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 }r}$8M+1 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 {bxTODt@ 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 J YA 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 @a08*"lbp 8.15十五层宽带抗反射膜 159 GOT@ 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 [jPUAr} 8.17 1/4波长堆栈 162 0Q81$% @< 8.18 陷波滤波器 163 dM%#DN8l 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 4z^ ?3@:K 8.20 褶皱 165 VJK?"mX 8.21 消偏振分光器1 169 K3uNR w 8.22 消偏振分光器2 171 P}] xz Vy 8.23 消偏振立体分光器 172 1:7 uS. 8.24 消偏振截止滤光片 173 3ErW3Ac Ou 8.25 立体偏振分束器1 174 .AIlv^:|U 8.26 立方偏振分束器2 177 y4%u< |