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Np+PUu> 内容简介 ~wDXjn"U& Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 p Run5 )7 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 @??3d9I 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 a|z-EKV PN 93.G(W 讯技科技股份有限公司 @KL&vm(F$
CO`)XB6W 目录 i1uoYb?4(I Preface 1 $97O7j@ 内容简介 2 \~*<[.8~ 目录 i LXo$\~M8G8 1 引言 1 S&}7XjY 2 光学薄膜基础 2 R)66qRf 2.1 一般规则 2 C^"zU>W_ 2.2 正交入射规则 3 CnB[ImMs(A 2.3 斜入射规则 6 eI:[o 2.4 精确计算 7 1M&Lb.J6 2.5 相干性 8 '*y(F*7+ 2.6 参考文献 10 E'aOHSAg 3 Essential Macleod的快速预览 10 /7D5I\ 4 Essential Macleod的特点 32 P#hRqETw 4.1 容量和局限性 33 aPelt` 4.2 程序在哪里? 33 1k6asz^T 4.3 数据文件 35 O(W"QY 4.4 设计规则 35 R/v|ZvI 4.5 材料数据库和资料库 37 #1haq[Uv7 4.5.1材料损失 38 ;F258/J 4.5.1材料数据库和导入材料 39 &AJ bx 4.5.2 材料库 41 `6VnL) 4.5.3导出材料数据 43 A:(|"<lA 4.6 常用单位 43 et+lL"& 4.7 插值和外推法 46 ,h o",y 4.8 材料数据的平滑 50 eV*QUjS~ 4.9 更多光学常数模型 54 ]!AS%D` 4.10 文档的一般编辑规则 55 .5Y{Yme 4.11 撤销和重做 56 )58O9b 4.12 设计文档 57 zU!{_Ao9 4.10.1 公式 58 |V\{U j 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 m
.(ja 4.10.3 沉积密度 59 PFX,X 4.10.4 平行和楔形介质 60 Xq$-&~
4.10.5 渐变折射率和散射层 60 twr{jdY9 4.10.4 性能 61 ~Yd[&vpQ 4.10.5 保存设计和性能 64 XDCm 4.10.6 默认设计 64 )r46I$]> 4.11 图表 64 I]eeV+U8W 4.11.1 合并曲线图 67 E'\gd7t ; 4.11.2 自适应绘制 68 Fl.?*KBz 4.11.3 动态绘图 68 !d()'N 4.11.4 3D绘图 69 YxM\qy{Vr 4.12 导入和导出 73 1!^BcrG. 4.12.1 剪贴板 73 6 EqN>. 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 fSbLkd 9 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 &$|~", 4.13 背景 77 2B$dT=G 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 ?-c|c_|$ 4.15 生成Rugate 84 @2"3RmYLo 4.16 参考文献 91 TQO|C? 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 x,^-a 5.1 Jobs 92 s;bGg 5.2 创建一个新Job(工作) 93 /)TeG]Xg 5.3 输入材料 94 "m^gCN}c 5.4 设计数据文件夹 95 @\F7nhSfa 5.5 默认设计 95 o`n8Fk}i 6 细化和合成 97 0\!Bh^++1 6.1 优化介绍 97 }K 'A/]' 6.2 细化 (Refinement) 98 #D_Ti%.^} 6.3 合成 (Synthesis) 100 .<QKQ% - 6.4 目标和评价函数 101 U=JK 6.4.1 目标输入 102 z+.G>0M 6.4.2 目标 103 f.J^HQ_ 6.4.3 特殊的评价函数 104 UhW{KIW 6.5 层锁定和连接 104 E&J<qTH9 6.6 细化技术 104 O;4S<N 6.6.1 单纯形 105 !y_L~81? 6.6.1.1 单纯形参数 106 7Z2D}O+ 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 Ru`afjc 6.6.2.1 Optimac参数 108 !PoyM[Z"f 6.6.3 模拟退火算法 109 8WDL.IO 6.6.3.1 模拟退火参数 109 ?&0CEfa? 6.6.4 共轭梯度 111 G h+;Vrx 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 huv|l6 6.6.5 拟牛顿法 112 D>jtz2y=D 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 BD]J/o 6.6.6 针合成 113 mIf)=RW 6.6.6.1 针合成参数 114 H9jlp.F 6.6.7 差分进化 114 mH;t)dT 6.6.8非局部细化 115 4}D&=0IZ 6.6.8.1非局部细化参数 115 4wKCzPy 6.7 我应该使用哪种技术? 116 P\ P=1NM 6.7.1 细化 116 ^kK")+K 6.7.2 合成 117 LiHJm- 6.8 参考文献 117 xb[yy}>"L 7 导纳图及其他工具 118 -ioO8D&! 7.1 简介 118 1sza\pR< 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 +>1Yp"> ? 7.2.1 四分之一波长规则 119 o]p$
w[5 7.2.2 导纳图 120 |goBIp[ 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 ksU& q%1 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 U!+O+( 7.5 斜入射导纳图 141 y+B iaD!U 7.6 对称周期 141 Z .`+IN(>E 7.7 参考文献 142 [i~@X2:Al 8 典型的镀膜实例 143 ~Fvz&dO 8.1 单层抗反射薄膜 145 sifjmNP 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 OkQ<
Sc 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 =S54p(> 8.4 W-膜层 148 B[sI7D>Y 8.5 V-膜层 149 @&HLm^j2O 8.6 V-膜层高折射基底 150 *9KT@"v 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 8B6(SQp% 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 clqFV
8.9 四层抗反射薄膜 153 KDg%sgRu} 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 HHyN\ 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 a$uDoi 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 De$Ic"Z9L 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 hHMp=8J7 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 uAYDX<Ja9 8.15十五层宽带抗反射膜 159 s;<]gaonB_ 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 &K |