-
UID:317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2026-07-16
- 在线时间1977小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
H}@|ucM"\ 内容简介
jab]!eY Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 P``hw=L 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 e,x@?L* 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 0N}5sF &p%,+| 讯技科技股份有限公司 {NFeX'5bP
3}+/\:q* 目录 H z6H,h Preface 1 \uYUX~}i" 内容简介 2 /}VQzF 目录 i <V,?!}V 1 引言 1 !Q#b4 f 2 光学薄膜基础 2 eS"gHldz 2.1 一般规则 2 Y!`?q8z$G 2.2 正交入射规则 3 W@G[ gS\T 2.3 斜入射规则 6 XX F9oy8 2.4 精确计算 7 Dux`BKl 2.5 相干性 8 Y}Dp{ 2.6 参考文献 10 _(jE](, 3 Essential Macleod的快速预览 10 qYh,No5\;t 4 Essential Macleod的特点 32 i`Yf|^;@2> 4.1 容量和局限性 33 !69^kIi$ 4.2 程序在哪里? 33 D6vn3*,& 4.3 数据文件 35 ~L1O\V
i 4.4 设计规则 35 U\[V !1O 4.5 材料数据库和资料库 37 `8-aHPF- 4.5.1材料损失 38 <_>6a7ra 4.5.1材料数据库和导入材料 39 :+5afv} 4.5.2 材料库 41 M;9+L&p= 4.5.3导出材料数据 43 q^cF D 4.6 常用单位 43
cjR.9bgn 4.7 插值和外推法 46 Gh
pd
k; 4.8 材料数据的平滑 50 P=@lkF!\# 4.9 更多光学常数模型 54 >R:+ml 4.10 文档的一般编辑规则 55 YfalsQ8 4.11 撤销和重做 56 K4yYNlY 4.12 设计文档 57 g-^m\>B 4.10.1 公式 58 Jv<)/Km` 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 q+z\Y? 4.10.3 沉积密度 59 {q)B@#p 4.10.4 平行和楔形介质 60 g?VME]: 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 NQJqS?^W&M 4.10.4 性能 61 VqrMi *W6 4.10.5 保存设计和性能 64 7`/qL " 4.10.6 默认设计 64 c 2@@Rd~M 4.11 图表 64 6'ZnyWb 4.11.1 合并曲线图 67 &V3oW1*W 4.11.2 自适应绘制 68 i6CYD 4.11.3 动态绘图 68 Ib\G{$r 4.11.4 3D绘图 69 PPPwDsJ 4.12 导入和导出 73 wUeOD.;#F 4.12.1 剪贴板 73 hN53= X: 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 t4*A+"~j 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 0%F.]+6[O4 4.13 背景 77 E,fp=. 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 6y_Z'@L 4.15 生成Rugate 84 hyKg=Foq 4.16 参考文献 91 +E~`H^ 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 Uq.~3V+u 5.1 Jobs 92 |w2AB7EU 5.2 创建一个新Job(工作) 93 pCUOeQL(
5.3 输入材料 94 N)*e^Nfb 5.4 设计数据文件夹 95 mv.I.EL 5.5 默认设计 95 Nj_sU0Dt 6 细化和合成 97 "V0:Lq 6.1 优化介绍 97 .^S78hr]n 6.2 细化 (Refinement) 98 A4FDR# 6.3 合成 (Synthesis) 100 grdyiBSVn 6.4 目标和评价函数 101 J\ +gd% 6.4.1 目标输入 102 PL$F;d 6.4.2 目标 103 vx@p;1RU` 6.4.3 特殊的评价函数 104 $jm<'
4 6.5 层锁定和连接 104 )hW {>Y3x 6.6 细化技术 104 AV4HX\`{P0 6.6.1 单纯形 105 g<4M!gi 6.6.1.1 单纯形参数 106 'F?Znd2L 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 w%dIe!sV 6.6.2.1 Optimac参数 108 XHM"agrhSQ 6.6.3 模拟退火算法 109 }l?_Cfvu 6.6.3.1 模拟退火参数 109 r_,m\'~s! 6.6.4 共轭梯度 111 )v{41sM+ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 /_OZ1jX 6.6.5 拟牛顿法 112 ~:<@ ` 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 fKz"z{\,0 6.6.6 针合成 113 w1#jVcUQ 6.6.6.1 针合成参数 114 KBRg95E~]l 6.6.7 差分进化 114 *-AAQ 6.6.8非局部细化 115 :KP'xf. 6.6.8.1非局部细化参数 115 T5jG IIa 6.7 我应该使用哪种技术? 116 ]|t.wr3AU 6.7.1 细化 116 AOx3QgC^NO 6.7.2 合成 117 zO5u{ 6.8 参考文献 117 fk7Cf"[w 7 导纳图及其他工具 118 d<Q+D1 7.1 简介 118 "]s|D@^4#b 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 t-m9n*\j1 7.2.1 四分之一波长规则 119 VUC <0WV 7.2.2 导纳图 120 k?/ v y9 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 z2Y_L8u2 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 k\c &2T]W 7.5 斜入射导纳图 141 27],O@2?L 7.6 对称周期 141 tkN3BQ 7.7 参考文献 142 |] !o*7"4 8 典型的镀膜实例 143 y^QYlZO 8.1 单层抗反射薄膜 145 4%fN\f 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 @> Ghfh>~D 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 y+"; 8.4 W-膜层 148 i$JG^6,O 8.5 V-膜层 149 R=amKLD? 8.6 V-膜层高折射基底 150 b4)*<Zp` 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 45)ogg2 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 RCh$j&Tn 8.9 四层抗反射薄膜 153 v*H & |