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C9>tj=yEY 内容简介 "\M16N Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 _ #]uk&5a 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 !dQG 5v 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 \x?q!(;G2 OCmF/B_ 讯技科技股份有限公司 q8%T)$!
)7@f{E#w 目录 0Y[LzLn Preface 1 (8DJf"} 内容简介 2 ?,~B@Kx 目录 i ,>% 2`Z) 1 引言 1 ?oF+?l 2 光学薄膜基础 2 ;v%Fw!b032 2.1 一般规则 2 G?$|aQ0j 2.2 正交入射规则 3 DZo7T! 2.3 斜入射规则 6 G?D7R/0) 2.4 精确计算 7 [r,a0s 2.5 相干性 8 G q%q x4 2.6 参考文献 10 J60XUxf 3 Essential Macleod的快速预览 10 70bI}/u 4 Essential Macleod的特点 32 ~ED8]*H|` 4.1 容量和局限性 33 ArWMbT>Zqw 4.2 程序在哪里? 33 -U/"eVM 4.3 数据文件 35 j9"uxw@ 4.4 设计规则 35 *ue-
x!"c 4.5 材料数据库和资料库 37 /RD@ [ 8 4.5.1材料损失 38 {(;dHF%{ 4.5.1材料数据库和导入材料 39 lnuf_;0 4.5.2 材料库 41 $D{KXkrd 4.5.3导出材料数据 43 1OB,UU"S$ 4.6 常用单位 43 G"w
?{W@ 4.7 插值和外推法 46 +oa\'.~? 4.8 材料数据的平滑 50
1@Abs 4.9 更多光学常数模型 54 JGQlx-qv 4.10 文档的一般编辑规则 55 S+(TRIjk 4.11 撤销和重做 56 tPu0r],`o 4.12 设计文档 57 b[&A,ZPh$@ 4.10.1 公式 58 RsV<4$ 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ny# ?^.1 4.10.3 沉积密度 59 *J[3f]PBmR 4.10.4 平行和楔形介质 60 H",w$$eF 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 0/{$5gy& 4.10.4 性能 61 (gN[<QL 4.10.5 保存设计和性能 64 /d; C)%$
4.10.6 默认设计 64 fZ8%Z
4.11 图表 64 e8T#ZWr* 4.11.1 合并曲线图 67 :|cC7,S 4.11.2 自适应绘制 68 hBb&-/ 4.11.3 动态绘图 68 N-XOPwx' 4.11.4 3D绘图 69 G.v zz-yG 4.12 导入和导出 73 #[ZF'9x 4.12.1 剪贴板 73 ZH'- >/ 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 9G njJ 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 7&oT}Z 4.13 背景 77 7ux0|l 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 %`*`HU#X 4.15 生成Rugate 84 6)<g%bH! 4.16 参考文献 91 [O)(0 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 &'%b1CbE 5.1 Jobs 92 p4l^b[p 5.2 创建一个新Job(工作) 93 OZ{YQ}t{^1 5.3 输入材料 94 JjBG9Rp{ 5.4 设计数据文件夹 95 u!kC+0Y 5.5 默认设计 95 B~S"1EE[ 6 细化和合成 97 +?"N5%a%F 6.1 优化介绍 97 hf5yTs 6.2 细化 (Refinement) 98 `qP <S
6.3 合成 (Synthesis) 100 Xvy3D@o 6.4 目标和评价函数 101 c6 O1Z\M@\ 6.4.1 目标输入 102 IE/F =Wr 6.4.2 目标 103 SvR:tyF 6.4.3 特殊的评价函数 104 *Uq1q 6.5 层锁定和连接 104 {NmpTb 6.6 细化技术 104 uu08q<B5b) 6.6.1 单纯形 105 b*C\0D 6.6.1.1 单纯形参数 106 fP|rD[ 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 &.dC% 6.6.2.1 Optimac参数 108 "ecG\}R= 6.6.3 模拟退火算法 109 o}EipTL 6.6.3.1 模拟退火参数 109 SePPI.n 6.6.4 共轭梯度 111 j?!BHNs 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 kR+xInDM* 6.6.5 拟牛顿法 112 Zp5;=8wa; 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 -TIrbYS` 6.6.6 针合成 113 :exgdm;N 6.6.6.1 针合成参数 114 ;ZnSWIF2 6.6.7 差分进化 114 %V40I{1 6.6.8非局部细化 115 lr>:S 6.6.8.1非局部细化参数 115 SZ/}2_; 6.7 我应该使用哪种技术? 116 k7o49Y(# 6.7.1 细化 116 %}< e;t-O 6.7.2 合成 117 PwF
1Pr`r 6.8 参考文献 117 ~3]ZN'b\ 7 导纳图及其他工具 118 XwI~ 0 7.1 简介 118 \BIa:}9O 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 a/})X[2 7.2.1 四分之一波长规则 119 Cxn<#Kf\-< 7.2.2 导纳图 120 WCa>~dF> 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 {_#~&I |