摘要
B4.hJZ5 J^v_VZ3 光栅结构广泛应用于各种
光学应用场景,如
光谱仪、近眼显示
系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。
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A$5T3j' [p<L*3< 任务说明
$]Q_x? 8\yH7H
0trFLX /
g&mDYV| 简要介绍衍射效率与偏振理论
!{4p+peqJV 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。
HP7Ec 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率:
vH?/YhH|
m:h]nm 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。
tHGK<rb 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程:
"evLI?
hP7nt 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为

。
ZQyT$l~b p*^O8o 光栅结构
参数 9oaq%Sf 研究了一种矩形光栅结构。
iBZ+gsSP 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。
PKwx)!
Rz 根据上述参数选择以下光栅参数:
b~\![HoCMM 光栅周期:250 nm
I($u
L@$ 填充因子:0.5
ue`F| 光栅高度:200 nm
;BI{v^()s 材料n_1:熔融石英(来自目录)
uZqo" 材料n_2:二氧化钛(来自目录)
>6aCBS?2 F~{4)`
]AN)M> m,*f6g 偏振态分析
SkK=VeD>8 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。
6!bf,T] 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。
Vbwbc5m} 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。
5B(|!Xq;I 5Wn6a$^
x.d9mjLN8m ncWASw` 模拟光栅的偏振态
?"L>jr( [rQ#skf
Jcy`:C\Ay D$j`+` 瑞利系数现在提供了偏振态的信息:
"Uyw7 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时,

。这说明衍射光是完全偏振的。
`E}2|9 对于𝜑=22°,

。此时,67%的光是TM偏振的。
| o+vpy 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。
0|HhA,u ntjUnd&v\ Passilly等人更深入的光栅案例。
)>=`[$D1t Passilly等人的工作研究并
优化了亚
波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。
{B[i|(xQx 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。
F2XXvxG s cn!,
@m(\f 1pcSfN :"1 光栅结构参数
Ue8_Q8q5 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。
fA|'}(kH 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。
,@<-h* m 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。
ZkqC1u3 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。
Q(%uDUg%
Ir]b.6B zO!`sPP 光栅#1——参数
u<+;]8[o 假设侧壁倾斜为线性。
0}aJCJ9sx= 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。
4h(aTbHaQ 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。
Z-:$)0f 光栅周期:250 nm
uz*C`T0:rj 光栅高度:660 nm
;7qk9rz4 填充因子:0.75(底部)
YXBS!89m 侧壁角度:±6°
h; {?z n_1:1.46
a8dR. n_2:2.08
:CH'Bt4< ;&[0 h)
Wqy8ZgSC N["(ZSS 光栅#1——结果
q/]tJ{FI 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。
m@jOIt!< 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。
Th"7p:SE? SLBKXj|
TzPVO>s <01MXT- 光栅#2——参数
+LrW#K; 假设光栅为矩形。
+K+
== mO& 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。
G-rN?R. 矩形光栅足以表示这种光栅结构。
M?]ObIM:5 光栅周期:250 nm
!(+?\+U lE 光栅高度:490 nm
6#dx%TC 填充因子:0.5
n NAJ8z}Nt n_1:1.46
/x`H6'3? n_2:2.08
\*_qP*vq@ {!x-kF_
a3p|>M6E &(wik#S 光栅#2——结果
eYS 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。
L V9\ 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。
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