摘要
]+DI.% KyP)Qzp 光栅结构广泛应用于各种
光学应用场景,如
光谱仪、近眼显示
系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。
aH_6s4+: iF+RnWX\ Uf*EJ1Ei L3(^{W]| 任务说明
^]p ! o,5h|\ [LM^),J? IxDWJ#k 简要介绍衍射效率与偏振理论
R@T6U:1 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。
P}3}ek1Ax 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率:
!$XHQLqF2 _q>SE1j+W= 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。
xcCl
(M]+ 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程:
ZX`J8lZP 0WxCSL$#I 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为
。
ek-!b!iI h=RDO 光栅结构
参数 }3/~x 研究了一种矩形光栅结构。
,WTTJN 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。
^Ip3A 根据上述参数选择以下光栅参数:
+`| *s3M 光栅周期:250 nm
&y_? rH 填充因子:0.5
u"VS* hSH 光栅高度:200 nm
4B O %{ 材料n_1:熔融石英(来自目录)
]gd/}m)1 材料n_2:二氧化钛(来自目录)
\%_ZV9cKF $@[)nvV\ <DiOWi Wpm9`K 偏振态分析
[Z}B" 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。
b&t[S[P.V 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。
,Q2N[Jwd$ 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。
3XVk#)lw 6Dzs? P O2#S: ~h j 2}v} 模拟光栅的偏振态
Ee?;i<u {rGYRn, (Pz8iz p?Sl}A@` 瑞利系数现在提供了偏振态的信息:
t"YIq/08 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时,
。这说明衍射光是完全偏振的。
[@.B4p 对于𝜑=22°,
。此时,67%的光是TM偏振的。
#S?c ;3- 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。
KM5 JZZP ?M"HXu Passilly等人更深入的光栅案例。
u9>6|w+ Passilly等人的工作研究并
优化了亚
波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。
7\/u& 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。
,8`O7V{W |Y{PO&-?r QN #)F !fZLQc 光栅结构参数
0WS|~?OR@ 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。
"yri[X 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。
syMm`/*/G- 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。
U$09p;~$Ww 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。
| XLFV ^je528%H X!7Xg 光栅#1——参数
jNqVdP]d\ 假设侧壁倾斜为线性。
GWh|FEqUbf 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。
4g'}h`kh 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。
LO}z)j~W 光栅周期:250 nm
yI4DVu. 光栅高度:660 nm
KT%{G8Y@M 填充因子:0.75(底部)
>DS}#'N4l 侧壁角度:±6°
VK$zq5D n_1:1.46
L,%Z9 n_2:2.08
$%;jk \086O9 2i"HqAB M0L-u 光栅#1——结果
;6zPiaDQ 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。
k)Zn> 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。
PMsC*U,oe l)%mqW% DUQ9AT#3 ]p}#NPe5 光栅#2——参数
>07shNX 假设光栅为矩形。
-@#Pc# 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。
"TUPYFK9 矩形光栅足以表示这种光栅结构。
h9U+%=^O 光栅周期:250 nm
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