摘要
$?'z%a{ t[^}/
S 光栅结构广泛应用于各种
光学应用场景,如
光谱仪、近眼显示
系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。
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LoTq2 / !>2s5^JI9 任务说明
5g/WQo\ y`\/eX
n#x{~oQc P~]BB.tog 简要介绍衍射效率与偏振理论
(-~tb- 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。
@YT=- 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率:
Oz n7C?\*
d;'@4NX5+ 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。
blS*HKw 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程:
Omh(UHZBB
(M[Kh ^ 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为

。
9{>m04888 dnN" 光栅结构
参数 VF6@;5p
研究了一种矩形光栅结构。
R;,&CQUl 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。
OBj.-jL 根据上述参数选择以下光栅参数:
X|8Yz3:o 光栅周期:250 nm
b@5bN\"x$ 填充因子:0.5
W'6*$Ron 光栅高度:200 nm
){gO b 材料n_1:熔融石英(来自目录)
u/k#b2BqL 材料n_2:二氧化钛(来自目录)
Q}]Q0'X8 SYl:X
+z9;BPw% q>H!?zi\Hy 偏振态分析
.
vYGJ8(P 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。
M,mj{OY~x 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。
bz<wihZj 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。
W_M]fjL. k*^.-v
Ij4\* D! )B8[w 模拟光栅的偏振态
# Dy;x\a -h.']^I
hBN!!a|l 85nUR[)h 瑞利系数现在提供了偏振态的信息:
Wp>W?'` 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时,

。这说明衍射光是完全偏振的。
f^0vkWI2 对于𝜑=22°,

。此时,67%的光是TM偏振的。
b Z%[ON5OY 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。
vwP516EM 9]hc{\ Passilly等人更深入的光栅案例。
8mx5K-/,y^ Passilly等人的工作研究并
优化了亚
波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。
s$`evX7D 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。
:Z`4ea"w t}TtWI
SDTX0v }g(aZ 光栅结构参数
%OW[rbE. 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。
Tk+\Biq
由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。
n>! E ] 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。
+IJpqFH 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。
%s<7|,
J$'T2@H# ]>:%:-d6 光栅#1——参数
UVU} 假设侧壁倾斜为线性。
@*_#zU#g 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。
C'mmo&Pd 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。
v*#Z{)r 光栅周期:250 nm
12cfqIo9 光栅高度:660 nm
{feS-.Khv 填充因子:0.75(底部)
,riwxl5*E/ 侧壁角度:±6°
h2,AcM n_1:1.46
I,?bZ&@8 n_2:2.08
u}#rS%SF* 9lny[ {9
Cr(pN[, OE:t!66 光栅#1——结果
zSkM8LM2 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。
b8QW^Z 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。
H&%=>hyX 9>zN 27
n>iPAD +R*4`F:QJQ 光栅#2——参数
HqN|CwGgJ: 假设光栅为矩形。
]`u{^f
忽略了衬底中的欠刻蚀部分。
Up/1c:<J 矩形光栅足以表示这种光栅结构。
k&^Megcb 光栅周期:250 nm
-3KB:K< 光栅高度:490 nm
4"7Qz z 填充因子:0.5
e {c.4'q n_1:1.46
w*bVBuXs n_2:2.08
zBc7bbK g"zk14'
/=Xen
mmS ~=#jO0dE| 光栅#2——结果
` 6"\.@4 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。
+>I4@1qC-| 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。
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