摘要
'Y6x!i2 2j9+ f{ l 光栅结构广泛应用于各种
光学应用场景,如
光谱仪、近眼显示
系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。
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z5V~m_RO s{"}!y=] 任务说明
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#:UP'v=w 6RA4@bIG 简要介绍衍射效率与偏振理论
*OX;ZQg0 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。
2 Nr* 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率:
m%=]
j<A
m2i'$^a# 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。
z0yPBt1W 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程:
W%6Y?pf)z
|8DMj s()* 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为

。
EFZ]|Z7 vtm?x,h 光栅结构
参数 n`W7g@Sg#I 研究了一种矩形光栅结构。
oqXs2F 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。
z 2/E?$( 根据上述参数选择以下光栅参数:
?}mbp4+j[ 光栅周期:250 nm
sI&|qK-( 填充因子:0.5
`oPUf! 光栅高度:200 nm
I(bxCiRV 材料n_1:熔融石英(来自目录)
+\Zr\fOe|% 材料n_2:二氧化钛(来自目录)
Q5kf-~Jx+ UWf@(8
?y1G,0, E1"H(m&6 偏振态分析
t'7A-K=k3 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。
c9uln 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。
B%L dH 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。
nQHQVcDs8 ?Dr_WFNjO
cBGR%w\t% 8c1ma 模拟光栅的偏振态
4ayZ.`aK /'g/yBY
3|Vh[iAa\ }O7!>T 瑞利系数现在提供了偏振态的信息:
x2 _?B[z 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时,

。这说明衍射光是完全偏振的。
-9X#+- 对于𝜑=22°,

。此时,67%的光是TM偏振的。
S.E'fc1 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。
?gGmJl !!\OB6 Passilly等人更深入的光栅案例。
O{Y_j&1 Passilly等人的工作研究并
优化了亚
波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。
_d J"2rx 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。
GcHy`bQbiX Gc1!')g!
sX,."@[ *~b}]M700 光栅结构参数
mRYM, 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。
1>"Yw|F-|3 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。
#[<XNs!" 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。
T`Jj$Lue{ 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。
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!^h{7NmP[ BT3X7Cx 光栅#1——参数
|PY*"Ul 假设侧壁倾斜为线性。
:tTP3t5 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。
F Tk`Mq 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。
'(.vB~m7*+ 光栅周期:250 nm
Dau'VtzN 光栅高度:660 nm
uJg| 填充因子:0.75(底部)
-Y:^<C^^&8 侧壁角度:±6°
q>^x,:L n_1:1.46
4Ww.CkRG n_2:2.08
ndB [f FKVf_Ncf%
$,&3:ke1 7G 3*@cl 光栅#1——结果
aplOo[ 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。
)=EJFQ*v 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。
~4t7Q ,!{/Y7PmJ
[$+N"4 |."thTO 光栅#2——参数
Obl,Qa:5 假设光栅为矩形。
LNU#NJ^Axt 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。
Z'ZN^j{ 矩形光栅足以表示这种光栅结构。
|OVD*A 光栅周期:250 nm
UwQyAD]Ht 光栅高度:490 nm
8<w8"B.i 填充因子:0.5
:~gG]|F n_1:1.46
q n2X._` n_2:2.08
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Qjl.O HO 光栅#2——结果
_w\A=6=q| 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。
k5X& |L/ 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。
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