摘要 `FmI?:Cv wddF5EcK0 |'a5n h! 对于许多
光学应用来说，抑制元件表面的反射是一个引人关注的问题。一种非常有趣的控制表面反射的方法是使用抗反射
纳米和微米
结构，这些结构受到自然界（如蛾眼）的启发。这些结构的特征尺寸处于亚
波长领域，具有独特的波长和
角度依赖性质。本文介绍了在
VirtualLab Fusion中分析和设计确定性抗反射结构的方法。
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] -5E%f| U 设计任务
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t>6DN. D5U\~' {L 连接建模技术：蛾眼结构 N4$0ptz#}G &z,w0FOre [81k4kU 光栅阶数分析器 G JH6b7I r,0> 40^ *t *yozN 元件内场分析器：FMM |\,e9U> '2# O { /Nxy?g|, 参数运行 _-&Au%QNJ` )vo PH)! .YLg^JfZ 参数优化 0 HF",:yl \|wV Ii ?hmj0i;XC 模拟结果
69CH W & 2MJ0 [9 通过计算器进行参考测量 8$@gAlI^ K);:+s- oIf -s[uH 结构内的场 _ H%ylAt1j GyT{p#l P 7 gS
M HO$s&}t 在参数空间中扫描以获取初始解决方案 Y[*z6gP( iF<VbQP=X^ g.&&=T 初始解决方案 #1 的参数优化 PcJ,Y\"[ q.rn ZU > \KBXS} 最终设计 #1 的性能分析 !U *i13 J]Uki*s 初始解决方案 #2 的参数优化 QT?f p
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最终设计 #2 的性能分析 -l$]>J ~
