摘要 0K#dWc}"a & JF^a lzw r]J%|? 对于许多
光学应用来说，抑制元件表面的反射是一个引人关注的问题。一种非常有趣的控制表面反射的方法是使用抗反射
纳米和微米
结构，这些结构受到自然界（如蛾眼）的启发。这些结构的特征尺寸处于亚
波长领域，具有独特的波长和
角度依赖性质。本文介绍了在
VirtualLab Fusion中分析和设计确定性抗反射结构的方法。
yTZbJx?m [q(7Jv 设计任务 ;{Ovqo| %ecg19~L/} y-Z*qR? 连接建模技术：蛾眼结构 ^8fO3<Jg re^1fv z6Mf>q 光栅阶数分析器 A Ys<IMQ T1e}WJbFE Rr RCT.+E 元件内场分析器：FMM <X;y
4lPZ OSq"q-Q 2Q Bq 参数运行 )IhI~,0Nmj H"n"Q:Yp A4SM@ry 参数优化 Yoaz |7LS 4!E6|N% f `qr [0wM 模拟结果 YE0s5bB6 6BMRl%3>Z 通过计算器进行参考测量 -4V1s;QUZ ' ;$2j ~ m >'o&Hj 结构内的场 Os[^ ch rb,&i1
.Mm8\]. &&t4G }* 在参数空间中扫描以获取初始解决方案 0iHK1Pt} #X|'RL($ r$0" Y-a 初始解决方案 #1 的参数优化 u 2BVQ<SA B:SzCC.B o&X!75^G> 最终设计 #1 的性能分析 !".@Wg$ [kn`~hI 初始解决方案 #2 的参数优化 i12iB+q +F`!
Jt Zcdt\;HKr 最终设计 #2 的性能分析 B"8^5#t4s
