摘要 ($cu!$lY~ lN1zfM 3p^WTQ>( 对于许多
光学应用来说,抑制元件表面的反射是一个引人关注的问题。一种非常有趣的控制表面反射的方法是使用抗反射
纳米和微米
结构,这些结构受到自然界(如蛾眼)的启发。这些结构的特征尺寸处于亚
波长领域,具有独特的波长和
角度依赖性质。本文介绍了在
VirtualLab Fusion中分析和设计确定性抗反射结构的方法。
a)TNVm^ =riP~%_ML) 设计任务 ;^*^
:L F)%; gzs {T^'&W>8G8 连接建模技术:蛾眼结构 n!N;WL3k l+N?:E$5=% jOuv\$ 光栅阶数分析器 cX=` Tl 8:A<PV!+ J}YI-t 元件内场分析器:FMM ?"C]h s _*;cwMne- UwM}!K7)G 参数运行 wG|3
iFK e;pNB z`Q5J9_<cV 参数优化 JDhA{VN6 c]"B)I1L CVUJ(D&Q 模拟结果 Bdg*XfXXk }3*h`(Bv7 通过计算器进行参考测量 M\<!m^~ ~XxD[T5 q#778 结构内的场 tFSdi.|G= $x)'_o}e m3XH3FgKz )N6R# 在参数空间中扫描以获取初始解决方案 Mu (Y6 GS$k 8qc%{8 初始解决方案 #1 的参数优化 /~^I]D lxmS.C *c%@f<R~ 最终设计 #1 的性能分析 kg61Dgu dSL %% 初始解决方案 #2 的参数优化 %%Kg'{-: m@Nx`aS? I[`2MKh 最终设计 #2 的性能分析 X @Bpjg