摘要 d@* dbECG kn3Gg dU Dqwd=$2% 对于许多
光学应用来说，抑制元件表面的反射是一个引人关注的问题。一种非常有趣的控制表面反射的方法是使用抗反射
纳米和微米
结构，这些结构受到自然界（如蛾眼）的启发。这些结构的特征尺寸处于亚
波长领域，具有独特的波长和
角度依赖性质。本文介绍了在
VirtualLab Fusion中分析和设计确定性抗反射结构的方法。
5"U5^6 :T Bw`? zd\* 设计任务 J'=s25OWU 3 Z SU^v j&A9
&+w 连接建模技术：蛾眼结构 cJwe4c6.m dXY}B=C k8}'@w 光栅阶数分析器 JDnWBE V d9e~><bPJ {#z47Rz 元件内场分析器：FMM 5gx;Bp^_ fIx|0,D&7L ?_ uan 参数运行 K|~ !o Q ' t( #HBU vft7-|8T 参数优化 wp~KrUlR xK1w->[ &V &beq4)p 模拟结果 d@Bd*iI< BUh(pS: 通过计算器进行参考测量 l_
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qP 结构内的场 \:n<&<aVSr E){OD yk 9*n?V ;E t?weD{O 在参数空间中扫描以获取初始解决方案 8193d%Wb )r*F.m{ &: tg/!=g 初始解决方案 #1 的参数优化 0!:%Ge_ iY sQ:3s ky]L`w 最终设计 #1 的性能分析 -=1>t3~\ !14v Ovj4{ 初始解决方案 #2 的参数优化 l0',B*og 6@(o8i pwVGe|h%, 最终设计 #2 的性能分析 XK0lv8(
