摘要 4U;Zs3 ++d%D9*V< &nRbI:R 对于许多
光学应用来说，抑制元件表面的反射是一个引人关注的问题。一种非常有趣的控制表面反射的方法是使用抗反射
纳米和微米
结构，这些结构受到自然界（如蛾眼）的启发。这些结构的特征尺寸处于亚
波长领域，具有独特的波长和
角度依赖性质。本文介绍了在
VirtualLab Fusion中分析和设计确定性抗反射结构的方法。
k;fy8 )R- e^ Cb 设计任务 b: c$EPK 3SeM:OYq]s $ YPU(y 连接建模技术：蛾眼结构 BJL*Dih m[ Hy*_4r k>'c4ay290 光栅阶数分析器 kf Xg\6uKc pO10L` | d,"6s=4(q 元件内场分析器：FMM Q!T+Jc9N Za>0 &Fnf ,P T5-9 m 参数运行 _[kZ : # K,$Ro@! _'.YC<; 参数优化 zG|#__=T M?nYplC x,+2k6Wn! 模拟结果 dB= aq34l T+q3]& 通过计算器进行参考测量 Tp.t.Qic M In6p "A>/m"c]* 结构内的场 L+]|-L`S ?S~@Ea8/M oE;SZ"$ x k/`WfSM\. 在参数空间中扫描以获取初始解决方案 ,5
A& #% 1|$V*: Pi !3wy 初始解决方案 #1 的参数优化 Z'V"nhL vr$zYdV> ,Qw\w, 最终设计 #1 的性能分析 iDdmr3 2E Ia'm9Z* 初始解决方案 #2 的参数优化 z^YL$ E d^F_Gg# X *f le 最终设计 #2 的性能分析 ,RYa hu
