摘要 L&1VPli !FweXFl -Iz&/u *}f 对于许多
光学应用来说，抑制元件表面的反射是一个引人关注的问题。一种非常有趣的控制表面反射的方法是使用抗反射
纳米和微米
结构，这些结构受到自然界（如蛾眼）的启发。这些结构的特征尺寸处于亚
波长领域，具有独特的波长和
角度依赖性质。本文介绍了在
VirtualLab Fusion中分析和设计确定性抗反射结构的方法。
iw6qNV:\Z }$W4aG*[ 设计任务 xq:.|{HUk zd CeOZ 6 ! /Z{uy 连接建模技术：蛾眼结构 -If-c'"G i^ 9Pi P|U !j8h$+:K 光栅阶数分析器 qO=_i d %dTkw+J :. !]+#Me 元件内场分析器：FMM q u[ ~# aH)$#6${Ap -f0Nb+AR 参数运行 !|`G<WD }7CMXw
[ r]eeKV,{p 参数优化 -ea>}S k LVf}J~? PF@+~FI 模拟结果 (#* 7LdZ kVs'>H@FY 通过计算器进行参考测量 >{i/ LC^S qG7^XO Ws- s z 结构内的场 2Yt#%bj7^ SU; PmG4 ]Q=D'1 MM (OT /o&cQ 在参数空间中扫描以获取初始解决方案 $X_JUzb Z~{0XG\Y ZS q7>} 初始解决方案 #1 的参数优化 jC1mui| Y^ R6HMi#eF ~vnG^ y>% 最终设计 #1 的性能分析 O(;K ]8 *@fR 36 初始解决方案 #2 的参数优化 > 4ex :Z AOQimjW9a lk{ 最终设计 #2 的性能分析 Ddde, WJA
