摘要 QC.W R'. %&KJtKe kYBTmz} z 对于许多
光学应用来说，抑制元件表面的反射是一个引人关注的问题。一种非常有趣的控制表面反射的方法是使用抗反射
纳米和微米
结构，这些结构受到自然界（如蛾眼）的启发。这些结构的特征尺寸处于亚
波长领域，具有独特的波长和
角度依赖性质。本文介绍了在
VirtualLab Fusion中分析和设计确定性抗反射结构的方法。
A#~"Gp xQ4D| & 设计任务 4?XX_=+F| Pxu!,Mi[d K 1>.%m 连接建模技术：蛾眼结构 &fA`Od6l" f!;i$Oif Mw!?2G[| 光栅阶数分析器 vlCjh! x d;&' uiS "pq# A* 元件内场分析器：FMM A0.) = q <mlQn?u AfKJa DKf 参数运行 0gPz|v>z N#{d_v^H?d /km ^IH 参数优化 b Jt397 5)4*J. 0'O; H[nrl 模拟结果
r(pp = ,c"_X8Fkx$ 通过计算器进行参考测量 vPEL'mw/3# NL&(/72V #M*h)/d[A 结构内的场 7k{Oae\ $ GutH}Kz"& &n|!
'/H N8(xz-6 在参数空间中扫描以获取初始解决方案 kRNr`yfN {:40Jf
I1U {t 初始解决方案 #1 的参数优化 yrO'15TB B9|!8V `),7* gn*) 最终设计 #1 的性能分析 %Rv&VFg 9,Zg'4",d 初始解决方案 #2 的参数优化 PCnE-$QH #C,M8~Q7 `Bx3grZ
7& 最终设计 #2 的性能分析 ug[|'t R8
