摘要 zoU. \]#C ]jYM;e 2S tpcAlU} 对于许多
光学应用来说，抑制元件表面的反射是一个引人关注的问题。一种非常有趣的控制表面反射的方法是使用抗反射
纳米和微米
结构，这些结构受到自然界（如蛾眼）的启发。这些结构的特征尺寸处于亚
波长领域，具有独特的波长和
角度依赖性质。本文介绍了在
VirtualLab Fusion中分析和设计确定性抗反射结构的方法。
B$G8,3 ,: U
L q%,ca 设计任务 IP3-lr u {mDaK&]Oh 7>'F=}6[Y 连接建模技术：蛾眼结构 1 /`>Eh @tA.^k0` KME
#5=~ 光栅阶数分析器 zV]0S o k)J7) L 8"@<s?0\" 元件内场分析器：FMM IO4 IaeM `#V"@Go \r2w@F{C 参数运行 ^iTA4 0K C{D2m SS 'coqm8V[% 参数优化 H_Yy.yi tv0 xfAV I6\3wU~). 模拟结果 BC+HP9<] z( ajR*\# 通过计算器进行参考测量 E_OLf%um " YBA$ef$ 1;h>^NOq 结构内的场 bMZ0%(q 5FMKJ7sC9 ps]6 ,@uyB xqr`T0!& 在参数空间中扫描以获取初始解决方案 Fri5_rxLl LCG< `XnFc*L 1 初始解决方案 #1 的参数优化 _eF*8 /z 5*CwQJC< u32<=Q[ 最终设计 #1 的性能分析 ]8^2(^3ct m} V, +E 初始解决方案 #2 的参数优化 B}Qo8i7
z I9MI}0}7 S$#Awen"@ 最终设计 #2 的性能分析 *n47.(a2i
