摘要 AVc|(~V ah!RQ2hDrV /KO2y0` 对于许多
光学应用来说,抑制元件表面的反射是一个引人关注的问题。一种非常有趣的控制表面反射的方法是使用抗反射
纳米和微米
结构,这些结构受到自然界(如蛾眼)的启发。这些结构的特征尺寸处于亚
波长领域,具有独特的波长和
角度依赖性质。本文介绍了在
VirtualLab Fusion中分析和设计确定性抗反射结构的方法。
akgvV~5 SvQj'5~< 设计任务 "!Hm.^1 6?0QzSpfC# }:b) =fs 连接建模技术:蛾眼结构 5* ~EdT \9:IL9~F de"+ABR 光栅阶数分析器 :+fW#: ]XfROhgP= I[LHJ4 元件内场分析器:FMM Thp!X/2O` 5@i(pVWZ 3J^'x 参数运行 FJsg3D*@J anUH'mcK* @CCDe`R* 参数优化 If@%^'^ON= DCSTp2 ,L(q/#p 模拟结果 G`u";w_ nN[QUg 通过计算器进行参考测量 ~ \7peH% }/%^;@q ; Gii1|pLZ1 结构内的场 2wYY0=k2 FWpb5jc)3 \ 3l3,VYH - I j 在参数空间中扫描以获取初始解决方案 {gS7pY%_W <%LN3T p+{*&Hm5 初始解决方案 #1 的参数优化 XSo$;q\ D{,
b|4 /2]=.bLwz 最终设计 #1 的性能分析 X&|y| OjY#xO+' 初始解决方案 #2 的参数优化 T_4y;mf!@O
tt]ZGn* Q-$EBNz 最终设计 #2 的性能分析 OQ by=} A