摘要 R?|_` @@A Z/x<U.B e$>5GM 对于许多
光学应用来说，抑制元件表面的反射是一个引人关注的问题。一种非常有趣的控制表面反射的方法是使用抗反射
纳米和微米
结构，这些结构受到自然界（如蛾眼）的启发。这些结构的特征尺寸处于亚
波长领域，具有独特的波长和
角度依赖性质。本文介绍了在
VirtualLab Fusion中分析和设计确定性抗反射结构的方法。
"l +Jx|h\ p6}jCGJ 设计任务 29Q5s$ YD@ J;_JH lK ;- ]f4O8 连接建模技术：蛾眼结构 qs-: JmA_w
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C?, MB "?^~Sm 光栅阶数分析器 'pm2C6AC x-Mp6 dqKTF_+VhA 元件内场分析器：FMM *.nqQhW 4 a2&kIn u5CT7_#) 参数运行 D *L Z_ /
V {w< F~ l3?3ZV 参数优化 BxZop.zwE( Cq(Xa- 09 %eaoW 模拟结果 uqO51V ~ \Gv Vs 通过计算器进行参考测量 x(=kh%\; f1~3y}7^Jq h;ShN U 结构内的场 )Y
*?VqZn 9C4l@ jrF l5h9Eq s*8hN*A/, 在参数空间中扫描以获取初始解决方案 E$ngmm [ ~y|%D; UxS;m4 初始解决方案 #1 的参数优化 QKP9*dz
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