摘要 w9< R#y[A leTf &W [XEkz#{
对于许多
光学应用来说，抑制元件表面的反射是一个引人关注的问题。一种非常有趣的控制表面反射的方法是使用抗反射
纳米和微米
结构，这些结构受到自然界（如蛾眼）的启发。这些结构的特征尺寸处于亚
波长领域，具有独特的波长和
角度依赖性质。本文介绍了在
VirtualLab Fusion中分析和设计确定性抗反射结构的方法。
fSK]|"c `4=^cyt+ 设计任务 0jy2H2 ChGYTn`X g?z/2 zKR 连接建模技术：蛾眼结构 X= 5xh 9]f!'d!5 / 5(Yy } 光栅阶数分析器
TQpf Q J}v}~Cv xhV O3LW' 元件内场分析器：FMM Enum/O5 7z JRJ*NB _>(^tCo 参数运行 WW4vn|0v ON=@ O K|zZS%?$ 参数优化 :XZU&Sr" ,(qRc (Ho }wr{W:j 模拟结果 5m \<U`
mF*2#]%dx 通过计算器进行参考测量 HN=V"a oM2l-[- Q=;U@k@> 结构内的场 2@'oe7E n.!#P| ORe(]I `Z 52:HNA\E/ 在参数空间中扫描以获取初始解决方案 l{I6&^!KS 8@i7pBl@ ,k )w6) 初始解决方案 #1 的参数优化 -JMdE_h DS+}UO Uc7mOa}4 最终设计 #1 的性能分析 WIC/AL' [Dk=? + 初始解决方案 #2 的参数优化 4|buk]9 Uzz'.K(Mv| -+(j q>t 最终设计 #2 的性能分析 _< k\FU
r
