摘要 ;A|-n1e>Hc
X%Z{K- 5b!vgm#]) 对于许多
光学应用来说,抑制元件表面的反射是一个引人关注的问题。一种非常有趣的控制表面反射的方法是使用抗反射
纳米和微米
结构,这些结构受到自然界(如蛾眼)的启发。这些结构的特征尺寸处于亚
波长领域,具有独特的波长和
角度依赖性质。本文介绍了在
VirtualLab Fusion中分析和设计确定性抗反射结构的方法。
MHh~vy'HB5 U7`A497Z 设计任务 CK,7^U 9z}uc@#D=m N}pw74=1 连接建模技术:蛾眼结构 q}~3C1 JRSSn] pw (@%gS[] 光栅阶数分析器 .q
`Hjmg< 4SlADvGl )Y2{_ bx4" 元件内场分析器:FMM _CW(PsfY
:bz}c48% e?7&M 参数运行 P%{^ i] >#hO).`C }._eIx" 参数优化 k.uMp<)D
.2%zC & ; ` D= S{
模拟结果 V}dJ.I /# =x<ge _Y 通过计算器进行参考测量 }dp=?AFg
A%`[mc]4# (iL|Sq&}b 结构内的场 {$R' WXVs ptDY3n~' wQe_vY Q$HG 在参数空间中扫描以获取初始解决方案 {B[=?6tQ *MJX? U<CTubF 初始解决方案 #1 的参数优化 a"FCZ.O1 lrv3fPIW U@-^C"R 最终设计 #1 的性能分析 i%/Jp[e\W> Zn
''_fjh 初始解决方案 #2 的参数优化 W}5xmz Wn(6,MDUN c2&q*]?l; 最终设计 #2 的性能分析 5qr'.m