摘要 DM3 %+ xY "Rr650w[ UR DXyA t 对于许多
光学应用来说，抑制元件表面的反射是一个引人关注的问题。一种非常有趣的控制表面反射的方法是使用抗反射
纳米和微米
结构，这些结构受到自然界（如蛾眼）的启发。这些结构的特征尺寸处于亚
波长领域，具有独特的波长和
角度依赖性质。本文介绍了在
VirtualLab Fusion中分析和设计确定性抗反射结构的方法。
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V FYX" q -Z 设计任务 ?9:~d#p Ag0)> PD^ )~ghb"K 连接建模技术：蛾眼结构 .v_-V?7 tZ_D.syBAc ;hJz'&UWQ 光栅阶数分析器 yFjjpEpnFt Q<fDtf } 'qiDh[ATa 元件内场分析器：FMM ]O+W+h{] K7}]pk,AG 'XW9+jj)/ 参数运行 gEkH5|* Y 2#`9OLu8X n>?eTlO3 参数优化 %p8#pt\$7 [^ eQGv[S G^qt@,n$; 模拟结果 Ql{:H5 ,!oR"b ! 通过计算器进行参考测量 I|vfxf ux si+vkI )^LiAL h 结构内的场 @$!rgLyL[ 9 ; `E,w UA(&_ -C\ Q>
J9M` a 在参数空间中扫描以获取初始解决方案 HAdDr!/` u/(~ew I 7'idjcR 初始解决方案 #1 的参数优化 6QG"~>v7'( ?[c{pb ,| bSj-xxB]e 最终设计 #1 的性能分析 }ISc^W) t *`~]XM@H 初始解决方案 #2 的参数优化 eizni \ tM3Q;8gB! \<W/Z.}/ 最终设计 #2 的性能分析 Ln"D .gpq
