摘要 eB2a-, ?C]vS_jAh -$\y_?} 对于许多
光学应用来说，抑制元件表面的反射是一个引人关注的问题。一种非常有趣的控制表面反射的方法是使用抗反射
纳米和微米
结构，这些结构受到自然界（如蛾眼）的启发。这些结构的特征尺寸处于亚
波长领域，具有独特的波长和
角度依赖性质。本文介绍了在
VirtualLab Fusion中分析和设计确定性抗反射结构的方法。
k``_EiV4t REQ\>UO_ 设计任务 > [)7U _|p -+-?w|}qV @?ebuj5{e 连接建模技术：蛾眼结构 zE* li`@ }f%} v C-xr" ]#] 光栅阶数分析器 *9
{PEx W@ >% {eE IZf{nQ[0 元件内场分析器：FMM ]dVGUG8 Y!xF ; a " > ypIR< 参数运行 *YI98 XE RUo /|w6:;$;mn 参数优化 oE @a'*.\ qfF~D0} RIR\']WN 模拟结果 J[&@PUy Lpkyoh v 通过计算器进行参考测量 4X/-4' W<{h, j 8 ]Ee?6]bN 结构内的场 m~BAyk^jo3 _ >?\DgjH _{ue8kGt Mc
lkEfn 在参数空间中扫描以获取初始解决方案 (le9q5Qr. BkAm/R -
nm"of\o 初始解决方案 #1 的参数优化 uo:J\ E eSn+ B;
c2SO3g\"i 最终设计 #1 的性能分析 D_ 2:k'4 -]Bq|qTH[( 初始解决方案 #2 的参数优化 _rMg}F" @/~omg}R iO{hA 最终设计 #2 的性能分析 Y;eZ9|Ht9
