摘要 5VWXUNe@_q 8?W!U*0aS aKaqi}IT 对于许多
光学应用来说，抑制元件表面的反射是一个引人关注的问题。一种非常有趣的控制表面反射的方法是使用抗反射
纳米和微米
结构，这些结构受到自然界（如蛾眼）的启发。这些结构的特征尺寸处于亚
波长领域，具有独特的波长和
角度依赖性质。本文介绍了在
VirtualLab Fusion中分析和设计确定性抗反射结构的方法。
'{kNXCnZ \s;]Tg 设计任务 gcr,?rE< `"[VkQFB/ iR 4CY- 连接建模技术：蛾眼结构 'j$iS W& b@N|sXt&C u*[,W-R& 光栅阶数分析器 V_U$ JKJ1= 9 A\J*OU H;s0|KRgJ 元件内场分析器：FMM G Q&9by=} mKZ?H$E%% V~5vVY_HG& 参数运行 aE X;yy*
,KkENp_ >8SX , 参数优化 [w~ teX0! 8_f0P8R!y -w 2 !k 模拟结果 133lIX+(k (|ga#%iI 通过计算器进行参考测量 }*$-rieg [?W3XUJ,Y m&,d8Gss^ 结构内的场 I J q$GR AO;+XP= BmUEo$w ] V]~I. 在参数空间中扫描以获取初始解决方案 PK3)M'[ n_v c}ame 0"u*K n 初始解决方案 #1 的参数优化 bEbO){Fe a%ec: % M6 AQ8~z 最终设计 #1 的性能分析 *~ 4uF GfQMdLy\Z 初始解决方案 #2 的参数优化 D.qbzJz Ym& _IOx 4,FkA_k 最终设计 #2 的性能分析 e@k
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