摘要 PVQn$-aq1
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B\ZCJaMb SapVS*yx@ 元件内部场分析器：FMM允许用户可视化和研究微
结构和
纳米结构内部的电磁场分布。为此，使用傅立叶模态法/严格耦合波分析（FMM/RCWA）计算周期性结构（透射或反射、电介质或金属）内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化：正向模式、反向模式或两者同时显示。
z_(4 +}mj;3i 元件内部场分析仪：FMM cI@'Pr4:FJ
}_+) :<Db lm{4x~y$h 元件内部场分析器：FMM是
光栅光学装置的独有功能，可提供光栅结构内部电磁场的可视化。
&pv* TL 8 yZmeke)_ 评估模式的选择 ,RAP_I!_x Ty;^3 AJoP3Zv|? 为了更容易地区分入射场、反射场和透射场，可以仅评估正向或反向传播模式，或者评估两者的总和。
+mO / 9m ]4FAbY2'h 评价区域的选择 +R 8dy <c ,i u{: {X nBj}C }Os7 [4 RW 元件内部场分析器：FMM可以输出整个元件（包括基板）内部的场，或者只输出一个堆栈或基块（基板）中的场。
(r1"!~d@ ZpwFC7LW 不同光栅结构的场分布 G2=d q {s2eOL5I|% 任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子：
90=gP Gy '/)}}Z J! QIMA4{ 光栅结构的采样 BY$L[U;@T 6>b#nFVJ 虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项，但
系统中定义的光栅表面必须正确采样（例如，分解点和过渡点的层数足够）。
7G Jhc tCj \U+; W$gjcsv R0q|{ 5S 分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。
ny<D1>{90 *M$$%G(4 光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛，即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如，如果层分解过于粗糙，则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。
+N|t:8 qaf @G|z _ LO%OH
u}] 输出数据的采样：一维周期光栅（Lamellar） % ^u
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J K9*Z 4`?WdCW8 对于1D周期性（片状）光栅，分析仪使用对话框“采样”部分中指定的
参数生成2D横截面
图像。
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"'Q~&B;@ 输出数据的采样：二维周期光栅
Q 9<i2H 8;3I:z&muQ 当分析的光栅设置为2D Periodic时，Field Inside Component Analyzer：FMM将通过结构生成一系列二元截面，z方向的采样参数决定执行的切割次数。
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