摘要 DedY(JOvB
{3qlx1w
|44 E:pA 8#ZF<BY 元件内部场分析器:FMM允许用户可视化和研究微
结构和
纳米结构内部的电磁场分布。为此,使用傅立叶模态法/严格耦合波分析(FMM/RCWA)计算周期性结构(透射或反射、电介质或金属)内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化:正向模式、反向模式或两者同时显示。
h|{DIG3 \Gm\sy 元件内部场分析仪:FMM .jv#<"DW O$(#gB'B K9tr Iy$v 元件内部场分析器:FMM是
光栅光学装置的独有功能,可提供光栅结构内部电磁场的可视化。
Q35D7wo'} 8D&yFal 评估模式的选择 @=6*]:p2. >|rU*+I` 3y}8|ML 为了更容易地区分入射场、反射场和透射场,可以仅评估正向或反向传播模式,或者评估两者的总和。
fA"9eUu j58'P 5N 评价区域的选择 yfZYGhPN( y4N2gBTKu ZkmYpi[ ') K'Ea 元件内部场分析器:FMM可以输出整个元件(包括基板)内部的场,或者只输出一个堆栈或基块(基板)中的场。
y1bo28 l\_81oZ 不同光栅结构的场分布 B'hN3. t8f:?
任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子:
hH~GH'dnaE f taa~h* /wPW2<|"X. 光栅结构的采样 P{2j31u` .W51Cup@& 虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项,但
系统中定义的光栅表面必须正确采样(例如,分解点和过渡点的层数足够)。
*:Uq
;)* I#:Dk?"O2 'Gqo{wl mCSt.n~ 分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。
* zc[t OjurfVw 光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛,即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如,如果层分解过于粗糙,则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。
@;7Ht Z` 5"&=BD~D |e91KmiqJ 输出数据的采样:一维周期光栅(Lamellar) ]VoJ7LoCZ' cuh Z_l Sr>5V 对于1D周期性(片状)光栅,分析仪使用对话框“采样”部分中指定的
参数生成2D横截面
图像。
yJ*g ; 9dFo_a*? 输出数据的采样:二维周期光栅
tPChVnB l}~9xa}:D| 当分析的光栅设置为2D Periodic时,Field Inside Component Analyzer:FMM将通过结构生成一系列二元截面,z方向的采样参数决定执行的切割次数。
IweNe`Z