摘要 1;&; 5
7*s8 ttX
XM~~y~j t `|,6qEG 元件内部场分析器：FMM允许用户可视化和研究微
结构和
纳米结构内部的电磁场分布。为此，使用傅立叶模态法/严格耦合波分析（FMM/RCWA）计算周期性结构（透射或反射、电介质或金属）内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化：正向模式、反向模式或两者同时显示。
nl1-kB)$e| ^# e~g/ 元件内部场分析仪：FMM op7FZHs
Yck~xt&] g4&jo_3:p 元件内部场分析器：FMM是
光栅光学装置的独有功能，可提供光栅结构内部电磁场的可视化。
<]G${y*; naNyGE7) 评估模式的选择 XU-m"_t ml u 3K N.j
"S'(i 为了更容易地区分入射场、反射场和透射场，可以仅评估正向或反向传播模式，或者评估两者的总和。
Q:MhjkOr} lKV" Mh+6 评价区域的选择 Yrn"saVc, F}X0', mBk5+ KyT !/I0i8T 元件内部场分析器：FMM可以输出整个元件（包括基板）内部的场，或者只输出一个堆栈或基块（基板）中的场。
4TRG.$ 2[ O}Le]2' 不同光栅结构的场分布 Bjj<\8 ^M 5bX6#5uP1 任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子：
9 E1W|KE -_8*41 .%xzT J=! 光栅结构的采样 eN-au/kN r;qzo . 虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项，但
系统中定义的光栅表面必须正确采样（例如，分解点和过渡点的层数足够）。
j+^L~, S .FP$ IWt/1 "x*-PFT $=aI "(3& 分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。
{0y u \4bWWy 光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛，即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如，如果层分解过于粗糙，则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。
t\R; < x g 9mG`f ]tt} # 输出数据的采样：一维周期光栅（Lamellar） t})$ lM 30F!kP*E \ 7Cg, Xn 对于1D周期性（片状）光栅，分析仪使用对话框“采样”部分中指定的
参数生成2D横截面
图像。
-{g~TUz n:#TOU1ix< 输出数据的采样：二维周期光栅 jqcz\n d cFZCf8:zB 当分析的光栅设置为2D Periodic时，Field Inside Component Analyzer：FMM将通过结构生成一系列二元截面，z方向的采样参数决定执行的切割次数。
i~yX tya
