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Vl5>o$G|<. Y#68_%[ 元件内部场分析器:FMM允许用户可视化和研究微
结构和
纳米结构内部的电磁场分布。为此,使用傅立叶模态法/严格耦合波分析(FMM/RCWA)计算周期性结构(透射或反射、电介质或金属)内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化:正向模式、反向模式或两者同时显示。
={P`Tve L>sLb(2\i 元件内部场分析仪:FMM BM /FOY; e~lFjr] 66eJp-5e8 元件内部场分析器:FMM是
光栅光学装置的独有功能,可提供光栅结构内部电磁场的可视化。
Pa3-0dUr W$zRUG- 评估模式的选择 'A:Y&w"r T@yQOD7 zG ='U 为了更容易地区分入射场、反射场和透射场,可以仅评估正向或反向传播模式,或者评估两者的总和。
4DCh+|r ;Y*K!iFWH 评价区域的选择 mk1R~4v LsERcjwwK tf6m. hp'oiR;~w 元件内部场分析器:FMM可以输出整个元件(包括基板)内部的场,或者只输出一个堆栈或基块(基板)中的场。
Wds>'zzS t(*n[7e 不同光栅结构的场分布 'D5J5+.z $"/l*H\h 任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子:
=figat iLSUz j` 'xqyG XI 光栅结构的采样 (rBsh6@) (t@)`N{ 虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项,但
系统中定义的光栅表面必须正确采样(例如,分解点和过渡点的层数足够)。
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w c%doNY9Q 分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。
n&;JW6VQS W$hCI)m( 光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛,即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如,如果层分解过于粗糙,则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。
jD S\ *>=tmW;% ^R@)CIQ 输出数据的采样:一维周期光栅(Lamellar) (]'wQ4iQ 8m
iJQIq c2g[w;0" 对于1D周期性(片状)光栅,分析仪使用对话框“采样”部分中指定的
参数生成2D横截面
图像。
^aAs=KditO g.9C>>tj 输出数据的采样:二维周期光栅 i;%G Z8 -&2Z/qM&! 当分析的光栅设置为2D Periodic时,Field Inside Component Analyzer:FMM将通过结构生成一系列二元截面,z方向的采样参数决定执行的切割次数。
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