[技术]元件内部场分析仪：FMM [复制链接]

摘要 #K<=xP  
CO:m]oj  
vc>^.#7
 
~WYE"(  
元件内部场分析器：FMM允许用户可视化和研究微结构和纳米结构内部的电磁场分布。为此，使用傅立叶模态法/严格耦合波分析（FMM/RCWA）计算周期性结构（透射或反射、电介质或金属）内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化：正向模式、反向模式或两者同时显示。 MYDf`0{$_a  
k$$S!qi#  
元件内部场分析仪：FMM 8r`VbgI&  
tKs4}vW  
i h`y0(<  
元件内部场分析器：FMM是光栅光学装置的独有功能，可提供光栅结构内部电磁场的可视化。 JhMrm%  
5H'b4Cyi`  
评估模式的选择 Gpxb_}P  
   <M=W)2D7  
%b-;Rn  
为了更容易地区分入射场、反射场和透射场，可以仅评估正向或反向传播模式，或者评估两者的总和。 0f=N3)  
/\3XARt  
评价区域的选择 \K_!d]I {  
   *s<dgFA'  
<750-d!  
RBv=  
元件内部场分析器：FMM可以输出整个元件（包括基板）内部的场，或者只输出一个堆栈或基块（基板）中的场。 #/XK&(X  
wEo-a< (  
不同光栅结构的场分布 &
t.>^7ELF  
_,K>u6N&  
任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子： W"}*Q-8W  
a`h$lUb-  
e u=f-HW]  
光栅结构的采样 e~2*>5\:  
fbx;-He!  
虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项，但系统中定义的光栅表面必须正确采样（例如，分解点和过渡点的层数足够）。 k.? T.9  
d~z<,_r5c  
/xrq'|r?C  
0R%uVJG  
分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。 ?w5nKpG#RI  
=|{,5="  
光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛，即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如，如果层分解过于粗糙，则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。 ss*2TE7  
1Sc~Vb|>  
We+FP9d%  
输出数据的采样：一维周期光栅（Lamellar） 6'sFmC  
cwW~ *90#  
n5,Pq+[  
对于1D周期性（片状）光栅，分析仪使用对话框“采样”部分中指定的参数生成2D横截面图像。 3xCA\*  
'`goy%Wd  
输出数据的采样：二维周期光栅 EV7+u0uN&Q  
+KwF U  
当分析的光栅设置为2D Periodic时，Field Inside Component Analyzer：FMM将通过结构生成一系列二元截面，z方向的采样参数决定执行的切割次数。 PK`(qK9