摘要 v}j5G,
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FprdP*/ $C7a#?YF, 元件内部场分析器:FMM允许用户可视化和研究微
结构和
纳米结构内部的电磁场分布。为此,使用傅立叶模态法/严格耦合波分析(FMM/RCWA)计算周期性结构(透射或反射、电介质或金属)内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化:正向模式、反向模式或两者同时显示。
{q)d %@Gy<t, 元件内部场分析仪:FMM B.r^'>jQ
Xs052c|s K`Kv .4 元件内部场分析器:FMM是
光栅光学装置的独有功能,可提供光栅结构内部电磁场的可视化。
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评估模式的选择 @@oJ@; r&4Xf#QD6 i|1*bZ6' 为了更容易地区分入射场、反射场和透射场,可以仅评估正向或反向传播模式,或者评估两者的总和。
@FN|=?8% n>, :*5"G 评价区域的选择 ]M*`Y[5" 5VTVx1P[8
e' l9 TxPFl7,r 元件内部场分析器:FMM可以输出整个元件(包括基板)内部的场,或者只输出一个堆栈或基块(基板)中的场。
9?,i+\)qK@ `#ruZM066 不同光栅结构的场分布 GfELL`yz wPM>-F 任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子:
]%A> swCpn %JE>Z] 3LET zsJ 光栅结构的采样 <4Gy~? (s;W>,~q 虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项,但
系统中定义的光栅表面必须正确采样(例如,分解点和过渡点的层数足够)。
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>*{k~Y-G v'S]g^ 分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。
S3Y.+. 0U Wz'!stcp 光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛,即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如,如果层分解过于粗糙,则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。
MMFg{8 r"2lcNE t\ oud{Cv 输出数据的采样:一维周期光栅(Lamellar) Z|E9}Il] v>wN
O kAEq +{h 对于1D周期性(片状)光栅,分析仪使用对话框“采样”部分中指定的
参数生成2D横截面
图像。
'w=|uE {^ kC. !cPd 输出数据的采样:二维周期光栅 <9,h! )9`HO?
当分析的光栅设置为2D Periodic时,Field Inside Component Analyzer:FMM将通过结构生成一系列二元截面,z方向的采样参数决定执行的切割次数。
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