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    [技术]元件内部场分析仪:FMM [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-01-03
    摘要 #FCnA  
    Mh:L$f0A%O  
    T?tgd J  
    p'*>vk  
    元件内部场分析器:FMM允许用户可视化和研究微结构纳米结构内部的电磁场分布。为此,使用傅立叶模态法/严格耦合波分析(FMM/RCWA)计算周期性结构(透射或反射、电介质或金属)内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化:正向模式、反向模式或两者同时显示。 C'.L20qW  
    t(NI-UXBp  
    元件内部场分析仪:FMM  8pIP  
    ZojI R\F^  
    =S+wCN  
    元件内部场分析器:FMM是光栅光学装置的独有功能,可提供光栅结构内部电磁场的可视化。 d iL +:H  
    >~[c|ffyo/  
    评估模式的选择 P2BWuh F  
      
    `1$@|FgyC  
    DEG[Z7Ju  
    为了更容易地区分入射场、反射场和透射场,可以仅评估正向或反向传播模式,或者评估两者的总和。 *`ua'"="k  
    V3Q+s8OIF  
    评价区域的选择 "U>JM@0DNm  
       a eFe!`F  
    cl=EA6P\X  
    Lsq A**=  
    元件内部场分析器:FMM可以输出整个元件(包括基板)内部的场,或者只输出一个堆栈或基块(基板)中的场。 ([T>.s  
    }Jy8.<Gd^  
    不同光栅结构的场分布 1PVtxL?1P  
    ZM !CaR  
    任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子: I7|Pi[e  
    nm5cpnNl  
    42{Ew8  
    光栅结构的采样 J%v=yBC2  
    p{amC ;cI$  
    虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项,但系统中定义的光栅表面必须正确采样(例如,分解点和过渡点的层数足够)。 : UGZ+  
    M -cTRd-i  
    +Mo9kC  
    591>rh)  
    分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。 DBW[{D E  
    :mh_G  
    光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛,即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如,如果层分解过于粗糙,则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。 C%$edEi  
    Q('r<v96  
    m[? E  
    输出数据的采样:一维周期光栅(Lamellar) L-jJg,eY  
    qON|4+~u%  
    &zl|87M  
    对于1D周期性(片状)光栅,分析仪使用对话框“采样”部分中指定的参数生成2D横截面图像 H*RC@O_hv  
    BZ94NOOdw  
    输出数据的采样:二维周期光栅 d A@]!  
    p `8 s  
    当分析的光栅设置为2D Periodic时,Field Inside Component Analyzer:FMM将通过结构生成一系列二元截面,z方向的采样参数决定执行的切割次数。
    @Lpq~ 1eZB  
     
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