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U#;51 _ y@o9~? M 元件内部场分析器：FMM允许用户可视化和研究微
结构和
纳米结构内部的电磁场分布。为此，使用傅立叶模态法/严格耦合波分析（FMM/RCWA）计算周期性结构（透射或反射、电介质或金属）内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化：正向模式、反向模式或两者同时显示。
ptV4s=G2 N>d|A]zH 元件内部场分析仪：FMM ,8c
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c q*p9c ~~C6)N~1 元件内部场分析器：FMM是
光栅光学装置的独有功能，可提供光栅结构内部电磁场的可视化。
&l. x:eD X,RT<G NNb 评估模式的选择 [ 8F
\; C9<4~IM
w W\it+/ 为了更容易地区分入射场、反射场和透射场，可以仅评估正向或反向传播模式，或者评估两者的总和。
@J-plJ4e !uWxRpT,7 评价区域的选择 l60ikc4$I ==]Z \jk 'FShNY5 H<`^w)? 元件内部场分析器：FMM可以输出整个元件（包括基板）内部的场，或者只输出一个堆栈或基块（基板）中的场。
|} _gA YF} 9k 不同光栅结构的场分布 `nT?6gy paW'R +Rck 任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子：
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<V> 光栅结构的采样 C/F@ ]_y
W`#gpi)7N 虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项，但
系统中定义的光栅表面必须正确采样（例如，分解点和过渡点的层数足够）。
sf Dg/ a ! L4dUMo 6 -]>]Hr- AK6=Ydu 分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。
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Tx 光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛，即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如，如果层分解过于粗糙，则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。
c#=&!FRe RNGO~:k?r F(deu^s%{ 输出数据的采样：一维周期光栅（Lamellar） +Dv 7:x7 mHKJ X$/E> I 对于1D周期性（片状）光栅，分析仪使用对话框“采样”部分中指定的
参数生成2D横截面
图像。
sNL+F I$n+DwKcN 输出数据的采样：二维周期光栅 ! ?jK1{E3 J;S-+ 当分析的光栅设置为2D Periodic时，Field Inside Component Analyzer：FMM将通过结构生成一系列二元截面，z方向的采样参数决定执行的切割次数。
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