摘要 VJ8cls<
V^sZXdDNL
0<d9al|J %{?EfULg 元件内部场分析器：FMM允许用户可视化和研究微
结构和
纳米结构内部的电磁场分布。为此，使用傅立叶模态法/严格耦合波分析（FMM/RCWA）计算周期性结构（透射或反射、电介质或金属）内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化：正向模式、反向模式或两者同时显示。
<$7HX /P #&u9z5ywM 元件内部场分析仪：FMM 5 Sm9m*/ D" UCe7 & Azfpv 元件内部场分析器：FMM是
光栅光学装置的独有功能，可提供光栅结构内部电磁场的可视化。
tbG^9d wK>a &`< 评估模式的选择 C ^oj/} ^ =BW;n]ls F6^Xi"R[ 为了更容易地区分入射场、反射场和透射场，可以仅评估正向或反向传播模式，或者评估两者的总和。
{"k}C2K'r olda't 评价区域的选择 $2I^ ;5 r[ eLPWoQXt 
*|n-Hr \JjZ _R 元件内部场分析器：FMM可以输出整个元件（包括基板）内部的场，或者只输出一个堆栈或基块（基板）中的场。
.nh }f}j +| |y/}1 不同光栅结构的场分布 QfPsF@+-`7 Esx"nex 任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子：
r I)Y
W0 [[
{L# ~gZ"8frl 光栅结构的采样 %QYW0l E Y]MB/\gj 虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项，但
系统中定义的光栅表面必须正确采样（例如，分解点和过渡点的层数足够）。
>(T)9fKF g }\ G@7Q 
,cj531. 9=RfGx 分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。
f 0Wbc\L[ N(ov.l; 光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛，即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如，如果层分解过于粗糙，则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。
F Lf< gz J[ 0o 6 } [2 输出数据的采样：一维周期光栅（Lamellar） `hpX 97v uUmk k }K F f 对于1D周期性（片状）光栅，分析仪使用对话框“采样”部分中指定的
参数生成2D横截面
图像。
u_31Db< K3g<NC 输出数据的采样：二维周期光栅 :[ P)t
% }(MI}o} 当分析的光栅设置为2D Periodic时，Field Inside Component Analyzer：FMM将通过结构生成一系列二元截面，z方向的采样参数决定执行的切割次数。
*m$lAWB5D
