摘要 # oS
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'JXN*YO dRar NW 元件内部场分析器：FMM允许用户可视化和研究微
结构和
纳米结构内部的电磁场分布。为此，使用傅立叶模态法/严格耦合波分析（FMM/RCWA）计算周期性结构（透射或反射、电介质或金属）内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化：正向模式、反向模式或两者同时显示。
oD|+X/F K . /z"P]$ 元件内部场分析仪：FMM y[Fw>g1`q P7^TRrMF FL*w( Br. 元件内部场分析器：FMM是
光栅光学装置的独有功能，可提供光栅结构内部电磁场的可视化。
4%Wn}@ u+"hr"}${ 评估模式的选择 Y?q*hS0!H ~S~x@&yR 9fk\Ay1P 为了更容易地区分入射场、反射场和透射场，可以仅评估正向或反向传播模式，或者评估两者的总和。
+=lcN~U2 o8yEUnqN 评价区域的选择 KfN`ZZ< 7kew/8- 
:D )&>{? o cuNrkZ 元件内部场分析器：FMM可以输出整个元件（包括基板）内部的场，或者只输出一个堆栈或基块（基板）中的场。
>H]|A<9u( ~ P.-3 不同光栅结构的场分布 pR^Y|NG! jmwQc& 任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子：
=iQ`F$ M ?F_;~ k}owEBsn} 光栅结构的采样 H;"N|pBy &t@6qi`d 虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项，但
系统中定义的光栅表面必须正确采样（例如，分解点和过渡点的层数足够）。
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+ xu/RY_ 分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。
E;+OD&| pOe` *2[ 光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛，即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如，如果层分解过于粗糙，则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。
E* DVQ3~ s Gm(Aax*0 (2a "W` 输出数据的采样：一维周期光栅（Lamellar） ^_"q`71Dk `0i}}Zo kJ5?BdvM& 对于1D周期性（片状）光栅，分析仪使用对话框“采样”部分中指定的
参数生成2D横截面
图像。
@):NNbtA M`,Z#)Af 输出数据的采样：二维周期光栅 . I9] `Q =xQfgj 当分析的光栅设置为2D Periodic时，Field Inside Component Analyzer：FMM将通过结构生成一系列二元截面，z方向的采样参数决定执行的切割次数。
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