[技术]元件内部场分析仪：FMM [复制链接]

摘要 -uG+BraI  
r#p9x[f<Y  

图片:1-231212162159159.png

FDs>m #e  
sY&IquK^  
元件内部场分析器：FMM允许用户可视化和研究微结构和纳米结构内部的电磁场分布。为此，使用傅立叶模态法/严格耦合波分析（FMM/RCWA）计算周期性结构（透射或反射、电介质或金属）内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化：正向模式、反向模式或两者同时显示。 i-_mTY&
M  
+7.',@8_V  
元件内部场分析仪：FMM 83_h J  
T.BW H2gRP  
aB&&YlR=n<  
元件内部场分析器：FMM是光栅光学装置的独有功能，可提供光栅结构内部电磁场的可视化。 *]) `z8Ox  
.t
!x<B  
评估模式的选择 F^;ez/Gl  
   uw_Y\F-$  
Ow,w$0(D  
为了更容易地区分入射场、反射场和透射场，可以仅评估正向或反向传播模式，或者评估两者的总和。 .Yn_*L+4*  
?+@?Up0wGO  
评价区域的选择 f.$af4 u  
   583|blL  

图片:1-23121216263M27.png

0S!K{xyR  
kdeWip6Y  
元件内部场分析器：FMM可以输出整个元件（包括基板）内部的场，或者只输出一个堆栈或基块（基板）中的场。 zRr*7G  
aX'*pK/-  
不同光栅结构的场分布 yvB.&<]No  
3F2w-+L  
任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子： 2fd{hJDq;5  
YNF k  
9W2Vo [(  
光栅结构的采样 n{mfn*r.  
gjDHo$  
虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项，但系统中定义的光栅表面必须正确采样（例如，分解点和过渡点的层数足够）。 0aB;p7~&  
eD6fpe\(  

图片:1-231212162P94N.png

0M[EEw3  
!%c\N8<>GD  
分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。 q@8*
Xa>  
/*
mI<[xb  
光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛，即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如，如果层分解过于粗糙，则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。 BRiE&GzrF  
s.C_Zf~3  
X l5 A 'h  
输出数据的采样：一维周期光栅（Lamellar） 8{sGNCvU  
u^  ~W+  
@\#td5'  
对于1D周期性（片状）光栅，分析仪使用对话框“采样”部分中指定的参数生成2D横截面图像。 %Q|Atgp  
cVF"!.  
输出数据的采样：二维周期光栅 (*iHf"=\  
jNk%OrP]  
当分析的光栅设置为2D Periodic时，Field Inside Component Analyzer：FMM将通过结构生成一系列二元截面，z方向的采样参数决定执行的切割次数。 T_4/C2