IGo5b-ds 内容简介
DjiI*HLNR Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了
软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前
薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的
光学薄膜设计技术》。
!HtW~8|: 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
|Bv,*7i& 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
qVO,sKQ{ 1bDAi2 H 讯技科技股份有限公司
5Q:49S47 2015年9月3日
Kx BvL[/ 目录
>I0 a$w Preface 1
n
4cos 内容简介 2
Qs?p)3qp 目录 i
({$rb- 1 引言 1
56u_viZ=8 2 光学薄膜基础 2
+.rE|)BPy 2.1 一般规则 2
(dy:d^ 2.2 正交入射规则 3
7VdxQ T 2.3 斜入射规则 6
bYX.4(R 2.4 精确计算 7
}[PC
YnS 2.5 相干性 8
]l3Y=Cl 2.6 参考文献 10
|oePB<N 3 Essential Macleod的快速预览 10
_ /Eg_dQ~@ 4 Essential Macleod的特点 32
gKmF#Z"\ 4.1 容量和局限性 33
h0A%KL 4.2 程序在哪里? 33
.81 ~ K[ 4.3 数据文件 35
Q.'2v%i 4.4 设计规则 35
s$lJJL 4.5 材料数据库和
资料库 37
|+JC'b?, 4.5.1材料损失 38
epG =)gd=8 4.5.1材料数据库和导入材料 39
2z AxGX 4.5.2 材料库 41
c+O:n:L 4.5.3导出材料数据 43
O%aHQL%Sz 4.6 常用单位 43
: w>R|] 4.7 插值和外推法 46
RSw;b.t7 4.8 材料数据的平滑 50
sXT8jLIf 4.9 更多光学常数模型 54
zz<o4bR 4.10 文档的一般编辑规则 55
rt?*eC1b+Z 4.11 撤销和重做 56
CL?=j| Ea 4.12 设计文档 57
RMid}BRE 4.10.1 公式 58
h&!$ `) 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
U'Y,T$Q 4.10.3 沉积密度 59
79k+R9m 4.10.4 平行和楔形介质 60
pX$X8z% 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
G_WHW(8 4.10.4 性能 61
J$T(p% 4.10.5 保存设计和性能 64
[A]
+Azc 4.10.6 默认设计 64
mtw{7E 4.11 图表 64
wSdiF-ue 4.11.1 合并曲线图 67
#BgiDLh 4.11.2 自适应绘制 68
6(Ntt 4.11.3 动态绘图 68
LWN9 D 4.11.4 3D绘图 69
Hq?dqg' %~ 4.12 导入和导出 73
H:WuMw D4 4.12.1 剪贴板 73
aN6HO 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
xK5~9StP 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
N|
P?!G-= 4.13 背景 77
)wdd"*hv 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
=rkW325O 4.15 生成Rugate 84
ta'wX 4.16 参考文献 91
6?JvvS5 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
VCIV*5
P 5.1 Jobs 92
/#q6.du 5.2 创建一个新Job(工作) 93
`_]Ul I_h 5.3 输入材料 94
A ^zd:h- 5.4 设计数据文件夹 95
Im]6-#(9\| 5.5 默认设计 95
`7?EE1o
6 细化和合成 97
YOA)paq+ 6.1 优化介绍 97
fhC| =0XB 6.2 细化 (Refinement) 98
tDMNpl 6.3 合成 (Synthesis) 100
hDBo
XIK 6.4 目标和评价函数 101
x0%@u^BF 6.4.1 目标输入 102
3BF3$_u)o 6.4.2 目标 103
R:f ,g2 6.4.3 特殊的评价函数 104
OsRizcgdA 6.5 层锁定和连接 104
h}DKFrHW;- 6.6 细化技术 104
hrXk 7}9 6.6.1 单纯形 105
K `A8N 6.6.1.1 单纯形
参数 106
{M\n 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
Lzcea+*uw 6.6.2.1 Optimac参数 108
1xO-tIp/ 6.6.3 模拟退火算法 109
.S* sGauM 6.6.3.1
模拟退火参数 109
c'5ls7?}O{ 6.6.4 共轭梯度 111
{.e^1qE 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
NfmHa 6.6.5 拟牛顿法 112
d b*J 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
vY,D02EMw 6.6.6 针合成 113
6fCHd10! 6.6.6.1 针合成参数 114
L@ejFXQg 6.6.7 差分进化 114
+%K~HYN 6.6.8非局部细化 115
WSGho(\ 6.6.8.1非局部细化参数 115
VssWtL 6.7 我应该使用哪种技术? 116
k]2_vk^ 6.7.1 细化 116
Dz8aJ6g 6.7.2 合成 117
_c}# f\ +_ 6.8 参考文献 117
Q-1Xgw! 7 导纳图及其他工具 118
,K|UUosS-# 7.1 简介 118
NYzBfL
x 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
D#^euNiWd 7.2.1 四分之一
波长规则 119
"z_},TCy 7.2.2 导纳图 120
?0qP6'nWx 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
3UUN@Tx 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
%8d]JQ 7.5 斜入射导纳图 141
Ynp#3 r 7.6 对称周期 141
xLgZtLt9 7.7 参考文献 142
U\-R'Z>M 8 典型的镀膜实例 143
~@T`0W-Py 8.1 单层抗反射薄膜 145
P?zaut 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
?},RN 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
k~,
k@mR 8.4 W-膜层 148
$R:Q R? 8.5 V-膜层 149
I~;H'7|e 8.6 V-膜层高折射基底 150
'ud[#@2 8.7 V-膜层高折射率基底b 151
D'BGoVP 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152
tk>J
mcTw 8.9 四层抗反射薄膜 153
wz BI<0]z 8.10 Reichert抗反射薄膜 154
'E\4/0 ! 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155
Dv&K3^~Rfb 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156
t J&tNSjTi 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157
Lu5X~6j"$ 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158
M5L /3qLh1 8.15十五层宽带抗反射膜 159
IaU%L6Q] 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161
2IUd?i3~l 8.17 1/4波长堆栈 162
tf[)| /M 8.18 陷波滤波器 163
hML-zZ 8.19 厚度调制陷波滤波器 164
b[:{\!I 8.20 褶皱 165
b`F]oQ_* 8.21 消偏振分光器1 169
!%.=35NS@E 8.22 消偏振分光器2 171
iq,rS" 8.23 消偏振立体分光器 172
!(Y,2{ 8.24 消偏振截止滤光片 173
;k,@^f8 8.25 立体偏振分束器1 174
BfD&