{AY`\G 内容简介
:h&*<!O2B` Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了
软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前
薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的
光学薄膜设计技术》。
g[P8 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
:hp=>^$Y 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
P2`!)teN VlVd"jW 讯技科技股份有限公司
dB`YvKr# 2015年9月3日
"yI)F~A 目录
.TURS Preface 1
@])qw_ 内容简介 2
oh5fNx 目录 i
{qm(Z+wcmb 1 引言 1
^L;`F 2 光学薄膜基础 2
uSs~P%@6| 2.1 一般规则 2
TWC^M{e 2.2 正交入射规则 3
G!54 e 2.3 斜入射规则 6
}cll? 2 2.4 精确计算 7
]~z2s;J{/ 2.5 相干性 8
otXB:a 2.6 参考文献 10
'W~O? 3 Essential Macleod的快速预览 10
]y,6 4 Essential Macleod的特点 32
*fq=["O 4.1 容量和局限性 33
1(Kd/%]{ 4.2 程序在哪里? 33
0j1I 4.3 数据文件 35
j+n1k^jC 4.4 设计规则 35
%cD7}o:u 4.5 材料数据库和
资料库 37
>Z?3dM~ [ 4.5.1材料损失 38
J*8fGR% 4.5.1材料数据库和导入材料 39
/0 ,#c2aq 4.5.2 材料库 41
?R0sY
?u 4.5.3导出材料数据 43
M[0@3"}} 4.6 常用单位 43
aT#R#7<Eg 4.7 插值和外推法 46
a`CsL Bv& 4.8 材料数据的平滑 50
()vxTTa 4.9 更多光学常数模型 54
6ZVJ2xs[% 4.10 文档的一般编辑规则 55
+gTnq")wnI 4.11 撤销和重做 56
aF$HF;-y 4.12 设计文档 57
Z^AACKME 4.10.1 公式 58
Q^8C*ekfg! 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
C CX\"-C 4.10.3 沉积密度 59
Cl]E rg 4.10.4 平行和楔形介质 60
u|\Lb2Kb: 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
m5sgcxt/ 4.10.4 性能 61
9q;\;- 4.10.5 保存设计和性能 64
;KmSz 1A 4.10.6 默认设计 64
QhK]>d. 4.11 图表 64
Bya!pzbpr 4.11.1 合并曲线图 67
'?_;s9) 4.11.2 自适应绘制 68
i7})VDsZ 4.11.3 动态绘图 68
(?&X<=|" 4.11.4 3D绘图 69
8@qYzSx[ 4.12 导入和导出 73
i
4eb\j 4.12.1 剪贴板 73
&|H?J,> 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
4)iSz> 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
g^1M]1.f 4.13 背景 77
x9
<cT' 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
)k3zOKZ; 4.15 生成Rugate 84
u9e A"\s 4.16 参考文献 91
?T70C9 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
G7`7e@{ 5.1 Jobs 92
lx~!FLn 5.2 创建一个新Job(工作) 93
V$-IRdb 5.3 输入材料 94
&`<j!xlG 5.4 设计数据文件夹 95
.8l\;/o| 5.5 默认设计 95
?DkMzR)u 6 细化和合成 97
xF5q=%n 6.1 优化介绍 97
c0u!V+V% 6.2 细化 (Refinement) 98
by&#g 6.3 合成 (Synthesis) 100
GLt#]I"LY 6.4 目标和评价函数 101
X#-U 6.4.1 目标输入 102
yuk64o2QE 6.4.2 目标 103
PV>-"2n 6.4.3 特殊的评价函数 104
) ]U-7 6.5 层锁定和连接 104
/_?Ly$>' 6.6 细化技术 104
nvxftbfE^D 6.6.1 单纯形 105
N/Z3 EF_ 6.6.1.1 单纯形
参数 106
p}!rPd* 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
x9~d_>'A 6.6.2.1 Optimac参数 108
v-X1if1% 6.6.3 模拟退火算法 109
|~W!Y\l- 6.6.3.1
模拟退火参数 109
Nj qUUkc 6.6.4 共轭梯度 111
*\I?gDON 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
! SD? 6.6.5 拟牛顿法 112
"Q#/J)N 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
<Jo_f&&{ 6.6.6 针合成 113
v$w!hYsQ 6.6.6.1 针合成参数 114
H6x~mZu_:T 6.6.7 差分进化 114
a84^"GH7 6.6.8非局部细化 115
U/m6% )Yx( 6.6.8.1非局部细化参数 115
2md1GWyP 6.7 我应该使用哪种技术? 116
1-1x,U7w 6.7.1 细化 116
\q(RqD 6.7.2 合成 117
WL7R.!P 6.8 参考文献 117
D&/(Avx.
7 导纳图及其他工具 118
d
/jO~+jP 7.1 简介 118
q*\#HC 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
Xp{+){Iu 7.2.1 四分之一
波长规则 119
<jQ?l%\ 7.2.2 导纳图 120
j{IAZs#@> 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
hJ>{`Tw 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
R>To
L 7.5 斜入射导纳图 141
T#Qn\8 7.6 对称周期 141
eRD?O 7.7 参考文献 142
vL`wn= 8 典型的镀膜实例 143
A}FEM[2 8.1 单层抗反射薄膜 145
OnC|9 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
f:G Zb?Wyd 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
B8'" ^a^&- 8.4 W-膜层 148
:z56!qU 8.5 V-膜层 149
KO<Yc`Fs 8.6 V-膜层高折射基底 150
ddmTMfH 8.7 V-膜层高折射率基底b 151
5v=%pQbY 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152
v-3In\T=^ 8.9 四层抗反射薄膜 153
ZTWbe 8.10 Reichert抗反射薄膜 154
n@mWBUM 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155
^TJn&k 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156
#qGfo) 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157
Bl2y~fCA 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158
7KnZ 8.15十五层宽带抗反射膜 159
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