xZ6x`BET- 内容简介
y+Hz(}4 Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了
软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前
薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的
光学薄膜设计技术》。
vZW[y5 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
r6kJV4I=re 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
,`02fMOLc +xvn n 讯技科技股份有限公司
ALV(fv$cD 2015年9月3日
4$WR8 目录
%`QgG Preface 1
I)yF!E & 内容简介 2
w$Fg0JS 目录 i
,<Z,- 0S 1 引言 1
UhrRB 2 光学薄膜基础 2
}Z{FPW.QK 2.1 一般规则 2
8\^A;5 2.2 正交入射规则 3
!/!ga)Y 2.3 斜入射规则 6
-7]j[{?w 2.4 精确计算 7
jCXBp>9$M 2.5 相干性 8
N#ZWW6 2.6 参考文献 10
gb|;]mk*" 3 Essential Macleod的快速预览 10
g8l6bh$} 4 Essential Macleod的特点 32
P%H Dz 4.1 容量和局限性 33
~\8(+qIv%f 4.2 程序在哪里? 33
kiyc ^s 4.3 数据文件 35
!><asaB]1 4.4 设计规则 35
A*wf:
mW0c 4.5 材料数据库和
资料库 37
Mn/@?K?y 4.5.1材料损失 38
O$}.b=N9 4.5.1材料数据库和导入材料 39
$XTtD UP@
4.5.2 材料库 41
f*B-aj# 4.5.3导出材料数据 43
92t.@!m` 4.6 常用单位 43
\hZ%NLj 4.7 插值和外推法 46
3F@P$4!#l 4.8 材料数据的平滑 50
o{! :N> ( 4.9 更多光学常数模型 54
]gg(Z!|iQ 4.10 文档的一般编辑规则 55
vXRY/Zzj1 4.11 撤销和重做 56
pA8As 4.12 设计文档 57
`d$@1 4.10.1 公式 58
(S?Y3l| 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
rv(?%h`
4.10.3 沉积密度 59
P!E2.K, 4.10.4 平行和楔形介质 60
F -,chp 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
u\L}B! 4.10.4 性能 61
RG""/x; 4.10.5 保存设计和性能 64
IlB8~{p_ 4.10.6 默认设计 64
%^HE^ & 4.11 图表 64
~^V&n`*7D 4.11.1 合并曲线图 67
?KOw~-u 4.11.2 自适应绘制 68
a!E22k?((z 4.11.3 动态绘图 68
R-j*fO} 4.11.4 3D绘图 69
Uu5(/vw] 4.12 导入和导出 73
uT4|43<
G 4.12.1 剪贴板 73
.=
?*Wp 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
[GI~ & 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
Xs2 jR14` 4.13 背景 77
0Zi+x#&d 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
T" W<l4i- 4.15 生成Rugate 84
h7!O
K 4.16 参考文献 91
m]!hP^^ 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
>e>3:~&2 5.1 Jobs 92
G:":CX"O( 5.2 创建一个新Job(工作) 93
xlS*9>Ij 5.3 输入材料 94
ZQ_6I}i") 5.4 设计数据文件夹 95
1.F&gP)9 5.5 默认设计 95
<3x%-m+p4 6 细化和合成 97
/oHCV0!0
6.1 优化介绍 97
%7)TiT4V 6.2 细化 (Refinement) 98
dHXe2rTE;& 6.3 合成 (Synthesis) 100
>ep<W<b 6.4 目标和评价函数 101
MhD' 6.4.1 目标输入 102
[3G{NC|' 6.4.2 目标 103
() _RLA 6.4.3 特殊的评价函数 104
|(z{)yWbC[ 6.5 层锁定和连接 104
],pB:= 6.6 细化技术 104
{fzX2qMZ] 6.6.1 单纯形 105
+ U5Q/g 6.6.1.1 单纯形
参数 106
1N8] ~j 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
*x|%Nua" 6.6.2.1 Optimac参数 108
N3|:MMl 6.6.3 模拟退火算法 109
Yt]`>C[|D 6.6.3.1
模拟退火参数 109
d#rr7O 6.6.4 共轭梯度 111
Lj<TzPzg* 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
KFd
+7C9 6.6.5 拟牛顿法 112
`Npa/Q 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
j8`
B 6.6.6 针合成 113
]- 1(r, 6.6.6.1 针合成参数 114
*#mmk1` 6.6.7 差分进化 114
't5ufAT 6.6.8非局部细化 115
})/P[^ 6.6.8.1非局部细化参数 115
K$,Zg 6.7 我应该使用哪种技术? 116
T(D6'm:X 6.7.1 细化 116
.[O{,r 6.7.2 合成 117
'^m.vS!/ 6.8 参考文献 117
kg7F8($ 7 导纳图及其他工具 118
2d[q5p 7.1 简介 118
,=u;1 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
/grTOf& 7.2.1 四分之一
波长规则 119
Trv}YT. 7.2.2 导纳图 120
! Ld5Y$ 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
^Spu/55_ 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
k4K.
mlIO 7.5 斜入射导纳图 141
#Q8_:dPY 7.6 对称周期 141
'@t$3
hk 7.7 参考文献 142
kw#X,hP 8 典型的镀膜实例 143
1&=)Bxg4 8.1 单层抗反射薄膜 145
IgX &aW 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
q`c!!Lg 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
5~[7|Y 8.4 W-膜层 148
m^3x%ENZ 8.5 V-膜层 149
^5sA*%T4 8.6 V-膜层高折射基底 150
0Qt!w( 8.7 V-膜层高折射率基底b 151
pWV_KS 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152
Fc1!i8vv 8.9 四层抗反射薄膜 153
j&d5tgLB 8.10 Reichert抗反射薄膜 154
H
-Mb:4 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155
fvC,P#z'| 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156
,eyh%k*hz 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157
F06o-xH= 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158
d+q],\"R 8.15十五层宽带抗反射膜 159
_re# b? 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161
+F8{4^w1 8.17 1/4波长堆栈 162
|(>`qL{| 8.18 陷波滤波器 163
Dp([r 8.19 厚度调制陷波滤波器 164
G"<#tif9K 8.20 褶皱 165
}nd>SK4 8.21 消偏振分光器1 169
SOOVUMj 8.22 消偏振分光器2 171
\?xM%(:<Q 8.23 消偏振立体分光器 172
ZyGoOk 8.24 消偏振截止滤光片 173
~7PD/dre 8.25 立体偏振分束器1 174
d0:LJ'<Q 8.26 立方偏振分束器2 177
JQ03om--( 8.27 相位延迟器 178
<w2h@ea 8.28 红外截止器 179
7iP+!e}$. 8.29 21层长波带通滤波器 180
keAoJeG,J 8.30 49层长波带通滤波器 181
~1uQyt 8.31 55层短波带通滤波器 182
vjS`;^9 8.32 47 红外截止器 183
Jl{ 0q7b 8.33 宽带通滤波器 184
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